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【24h】

A Ku-band high power density A1GaN/GaN HEMT monolithic power amplifier

机译:Ku波段高功率密度AlGaN / GaN HEMT单片功率放大器

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摘要

A high power density monolithic power amplifier operated at Ku band is presented utilizing a 0.3 μm AIGaN/GaN HEMT production process on a 2-inch diameter semi-insulating (SI) 4H-SiC substrate by MOCVD. Over the 12-14 GHz frequency range, the single chip amplifier demonstrates a maximum power of 38 dBm (6.3 W), a peak power added efficiency (PAE) of 24.2% and linear gain of 6.4 to 7.5 dB under a 10% duty pulse condition when operated at V_(ds) = 25 V and V_(gs) = –4 V. At these power levels, the amplifier exhibits a power density in excess of 5 W/mm.
机译:提出了一种在Ku波段工作的高功率密度单片功率放大器,该器件利用0.3μm的AIGaN / GaN HEMT生产工艺在2英寸直径的半绝缘(SI)4H-SiC衬底上通过MOCVD进行制造。在12-14 GHz频率范围内,单芯片放大器的最大功率为38 dBm(6.3 W),峰值功率附加效率(PAE)为24.2%,在10%占空比脉冲下的线性增益为6.4至7.5 dB在V_(ds)= 25 V且V_(gs)= –4 V的条件下工作。在这些功率水平下,放大器的功率密度超过5 W / mm。

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