机译:ArF浸没式光刻技术需要顶级抗反射涂层材料
ArF; immersion lithography; top antireflective; defect; quencher;
机译:ArF浸没式光刻技术需要顶级抗反射涂层材料
机译:用于KrF,ArF和F_2光刻的三层底部抗反射涂层的设计
机译:面向32 nm节点ArF浸没光刻的双图案化材料和工艺的开发
机译:用于浸入光刻的有机ARF底部抗反射涂层
机译:光学设备和涂层的干涉光刻。
机译:通过全晶圆和卷对卷分步闪光纳米压印光刻技术生产的塑料基板单层宽带抗反射涂层
机译:具有用于ARF浸入光刻的粗硅组的新型顶涂层材料
机译:水下船舶涂料:海洋浸泡后弹性防污材料的详细检查