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李艳秋;
中国照明学会;
浸没式ArF光刻; 下一代光刻; 分辨率增强;
机译:用于ArF浸没式光刻的光刻性能的全场分析
机译:JSR于2015年获得第64届日本化学学会化学技术奖-由于开发用于ArF浸没式光刻的面漆材料-
机译:JSR ArF因开发用于浸没式光刻的面漆材料而荣获日本化学会化学技术奖
机译:使用ArF浸没式光刻技术制造的垂直弯曲波导的宽带和偏振不敏感表面光耦合器
机译:用于浸没式光刻的水性和有机液体的折射率和吸收率。
机译:在浸没式发酵下增强了抗链霉菌突变体的脂溶液的生产并在浸没后发酵
机译:偏振照明对45nm节点ArF浸没光刻法中高NA成像的影响
机译:1993年达拉斯大坝延伸长度浸没式棒材筛网和超长度浸没式行走筛网的成像污染行为
机译:盐酸盐作为光生酸剂和光阻组合物,其组成适用于ARF准分子激光光刻,KRF准分子激光光刻和ARF浸没光刻
机译:ArF浸没式光刻化学放大正性抗蚀剂成分和构图工艺
机译:用于ArF浸没式光刻和图案形成工艺的化学放大正型抗蚀剂组合物
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