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机译:H-W-ECR CVD系统中原子氢气氛中热和光诱导退火处理a-Si:H膜的研究
stability of a-Si:H thin film; TLAH; extended exponential law;
机译:H-W-ECR CVD系统中原子氢气氛中热和光诱导退火处理a-Si:H膜的研究
机译:H-W-ECR CVD系统中原子氢气氛中热和光诱导退火处理a-Si:H膜的研究
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机译:A-Si的氢等离子体和热退火处理:H薄膜用于C-Si表面钝化
机译:研究热生长和远端PECVD沉积的二氧化硅薄膜中的局部原子结构和热历史。
机译:热退火对HFCVD合成高孔隙率A-WO3薄膜结构和形貌特性的影响
机译:c-Si表面钝化的a-Si:H薄膜上的氢等离子体和热退火处理