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公开/公告号CN1743514A
专利类型发明专利
公开/公告日2006-03-08
原文格式PDF
申请/专利权人 周永宗;
申请/专利号CN200510028670.5
发明设计人 周永宗;
申请日2005-08-11
分类号C30B33/02(20060101);
代理机构
代理人
地址 201821 上海市嘉定区裕民路388弄16号602室
入库时间 2023-12-17 17:03:48
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2006-05-03
实质审查的生效
2006-03-08
公开
机译: 用于在任何气氛的中性或还原性气氛中退火通道的方法和装置
机译: 热处理,例如惰性气体和还原性气体在输送炉中对工件进行退火,直至达到氧气分压的上限值,在惰性气氛中继续进行退火
机译: 制造商高温具有熔体结构晶界的超导体-包括在薄膜中均匀分布银,将超导部件加热到910-960度。 C.,在惰性气氛中冷却,然后氧气@退火
机译:气氛和温度对NiAl金属间化合物和MAl基材料的结构,相组成和力学性能的影响1.惰性气氛中退火的结构和相变
机译:惰性气氛下合成后退火过程中CsPbBr3纳米晶体的演化
机译:在惰性气氛中通过退火在CuAl稀合金上自行形成纳米复合Cu / Al2O3薄膜
机译:通过在惰性气氛中退火,韧性提高Al_2O_3 / CE-TZP功能梯度材料
机译:几种碳正离子的低温惰性气氛X射线晶体学研究
机译:在共热解中释放硫和氮气煤与生物质在惰性气氛下
机译:通过在惰性气氛中组装而在空气中不稳定的二维晶体产生的高质量异质结构
机译:惰性气氛中蒸馏水有机氮化合物的日光光化学