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【2h】

Hydrogen Plasma and Thermal Annealing Treatments on a-Si:H Thin Film for c-Si Surface Passivation

机译：c-Si表面钝化的a-Si：H薄膜上的氢等离子体和热退火处理

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作者
Serenelli Luca; Chierchia Rosa; Izzi Massimo; Tucci Mario; Martini Luca; Caputo Domenico; Asquini Rita; de Cesare Giampiero;
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年度 2014
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1. A critical study on different hydrogen plasma treatment methods of a-Si: H/c-Si interface for enhanced defect passivation [J] . Soman Anishkumar, Antony Aldrin Applied Surface Science . 2021,第Jula1期

机译：用于增强缺陷钝化的A-Si：H / C-Si接口不同氢等离子体处理方法的关键研究
2. Rapid thermal annealing of hot wire chemical-vapor-deposited a-Si:H films: The effect of the film hydrogen content on the crystallization kinetics, surface morphology, and grain growth [J] . A. H. Mahan, B. Roy, R. C. Reedy Jr., Journal of Applied Physics . 2006,第2期

机译：热线化学气相沉积a-Si：H膜的快速热退火：膜中氢含量对结晶动力学，表面形态和晶粒生长的影响
3. Annealing effect on surface passivation of a-Si:H/c-Si interface in terms of crystalline volume fraction [J] . Yang H.J., Ji K.-S., Choi J., Current applied physics: the official journal of the Korean Physical Society . 2010,第Suppla3期

机译：退火对a-Si：H / c-Si界面表面钝化的影响（以晶体体积分数计）
4. Hydrogen plasma and thermal annealing treatments on a-Si:H thin film for c-Si surface passivation [C] . Luca Serenelli, Rosa Chierchia, Massimo Izzi European Materials Research Society Symposium . 2015

机译：A-Si的氢等离子体和热退火处理：H薄膜用于C-Si表面钝化
5. Low energy electrodynamics of hydrogenated amorphous silicon (a-Si:H) thin films. [D] . Rahman, Rezwanur. 2013

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7. Surface passivation of silicon solar cells using plasma-enhanced chemical-vapour-deposited SiN films and thin thermal SiO2/plasma SiN stacks [O] . Jan Schmidt, Mark Kerr, Andrés Cuevas 2001

机译：使用等离子体增强的化学 - 蒸汽沉积的SIN薄膜和薄的热SiO2 /等离子体SIN堆叠表面钝化硅太阳能电池

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