机译:通过具有不同磨料粒径的十字图案抛光垫抛光蓝宝石晶片的磨料去除深度
Binary image pixel division; Patterned polishing pad; Average abrasive removal depth;
机译:通过具有不同磨料粒径的十字图案抛光垫抛光蓝宝石晶片的磨料去除深度
机译:补偿化学机械抛光下蓝宝石晶片碗形结构的磨料去除深度研究
机译:通过整合抛光时间分析模型和特定倒力能源理论建立硅晶片化学机械抛光磨削深度的理论模型
机译:化学机械抛光中的材料去除区:浆料化学品,磨料尺寸分布和晶圆垫接触面积的偶联效果
机译:化学机械抛光中垫-磨料-晶片接触的力学
机译:氧化铝磨料颗粒行为对MEMS MR抛光影响的实验研究
机译:磨料大小对蓝宝石晶圆高压化学机械抛光的影响