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机译:化学机械抛光中垫-磨料-晶片接触的力学
Bozkaya, Dincer;
Northeastern University;
机译:晶圆抛光对化学机械抛光过程中接触力学的贡献分析
机译:基于接触力学的材料表面化学机械抛光模型
机译:宏观测量控制量子力学:电化学制造的原子级点接触机械控制量子电导切换
机译:基于接触力学的化学机械抛光中的磨蚀与腐蚀模型
机译:用于集成电路平面化的化学机械抛光的界面力学。
机译:化学机械抛光实施后化学机械抛光对钛植入物表面性质的影响FT-IR和钛植入物表面的润湿性数据
机译:化学机械抛光过程的力学,机理和建模
机译:在IC中形成接触涉及通过施加掩模层,形成开口,蚀刻接触孔,施加衬垫,接触材料而产生的化学机械抛光结构
机译:化学机械抛光水分散液制备套件,化学机械抛光水分散液的制备方法,化学机械抛光水分散液和化学机械抛光方法
机译:化学机械抛光的水分散体,化学机械抛光方法,化学机械抛光的工具包和制备化学机械抛光的水分散体的工具
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