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大分子螯合剂在低压力低磨料条件下铜膜化学机械抛光中的应用

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摘要

介绍了FA/O型螯合剂在化学机械抛光过程中的作用机理,在低压力低磨料条件下,利用FA/O型鳌合剂极强的鳌合能力,对300mm铜膜进行化学机械抛光,获得了较高的抛光速率和较低的表面粗糙度,在此基础上,通过极差分析、显著性分析和对比分析等方法,论证了FA/O型螯合剂在此过程中发挥的重要作用.

来源
《2013年海峡两岸平坦化技术研讨会》|2013年|142-150|共9页
会议地点天津
作者
Li Yan; 李炎; Liu Yuling; 刘玉岭; Bu Xiaofeng; 卜小峰; Li Hongbo; 李洪波; Tang Jiying; 唐继英; Fan Shiyan; 樊世燕; Chen Rui; 陈蕊;
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作者单位

中国机械工程学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类 TN405.2;
关键词
集成电路; 化学机械抛光工艺; 铜膜; 大分子螯合剂;
入库时间 2022-08-17 10:47:37