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1.
Structural Design, Layout Analysis and Routing Strategy for Constructing IC Standard Cells Using Emerging 3D Vertical MOSFETs
机译:
使用新兴的3D垂直MOSFET构建IC标准单元的结构设计,布局分析和布线策略
作者:
Hongyi Liu
;
Chuyang Hong
;
Ting Han
;
Jun Zhou
;
Yijian Chen
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability X》
|
2016年
关键词:
standard cell layout;
vertical gate-all-around (GAA) nanowire MOSFET;
double-surrounding-gate (DSG) MOSFET;
routing;
self-aligned multiple patterning;
2.
Integrated Routing and Fill for Self-Aligned Double Patterning (SADP) Using Grid-Based Design
机译:
使用基于网格的设计用于自对准双图案(SADP)的集成布线和填充
作者:
Youngsoo Song
;
Jeemyung Lee
;
Seongmin Lee
;
Youngsoo Shin
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability X》
|
2016年
3.
Impact of EUV patterning scenario on different design styles and their ground rules for 7nm/5nm node BEOL layers
机译:
EUV构图方案对7nm / 5nm节点BEOL层的不同设计风格及其基本规则的影响
作者:
Tsann-Bim Chiou
;
Alek C. Chen
;
Mircea Dusa
;
Shih-En Tseng
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability X》
|
2016年
关键词:
EUV;
BEOL;
design style;
metal;
cut block;
edge placement error;
line edge roughness;
elongated via;
4.
Using Pattern Enumeration to Accelerate Process Development and Ramp Yield
机译:
使用模式枚举来加快过程开发和成品率
作者:
Linda Zhuang
;
Jenny Pang
;
Jessy Xu
;
Mengfeng Tsai
;
Amy Wang
;
Yifan Zhang
;
Jason Sweis
;
Ya-Chieh Lai
;
Hua Ding
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability X》
|
2016年
关键词:
Design Rule;
Pattern Enumeration;
Process Weak Point;
Test Keys;
Yield;
5.
Hybrid hotspot detection using regression model and lithography simulation
机译:
使用回归模型和光刻模拟的混合热点检测
作者:
Taiki Kimura
;
Tetsuaki Matsunawa
;
Shigeki Nojima
;
David Z. Pan
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability X》
|
2016年
关键词:
hotspot;
regression;
optical intensity;
lithography simulation;
SVM;
SVR;
6.
Impacts of Process Variability of Alternating-Material Self-Aligned Multiple Patterning on SRAM Circuit Performance
机译:
交替材料自对准多重图案工艺变异性对SRAM电路性能的影响
作者:
Ting Han
;
Chuyang Hong
;
Qi Cheng
;
Yijian Chen
会议名称:
《》
|
2016年
关键词:
SRAM;
circuit variability;
static noise margin (SNM);
alternating-material (dual-material) self-aligned multiple patterning (altSAMP);
edge-placement errors (EPE).;
7.
Model-Based CMP Aware RC Extraction of Interconnects in 16nm Designs
机译:
16nm设计中互连的基于模型的CMP感知RC提取
作者:
Yongchan Ban
;
Sang Min Han
;
Eunjoo Choi
;
Tamba Gbondo-Tugbawa
;
Kuang Han Chen
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability X》
|
2016年
关键词:
CMP;
Process Variation;
Design-for-Manufacturability;
Model-based;
RC Extraction;
Interconnects;
Timing;
8.
Pattern-based DTCO flow for early estimation of lithographic difficulty using optical image processing
机译:
基于图案的DTCO流程,用于使用光学图像处理来早期估计光刻难度
作者:
Moutaz Fakhry
;
Kareem Madkour
;
Wael ElManhawy
;
Jason Cain
;
Joe Kwan
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability X》
|
2016年
关键词:
design technology co-optimization (DTCO);
litho-friendly design (LFD);
lithography;
pattern matching;
design for manufacturability;
(DFM);
frequency domain DRC;
9.
A Random Approach of Test Macro Generation for Early Detection of Hotspots
机译:
用于早期发现热点的测试宏生成的随机方法
作者:
Jong-hyun Lee
;
Chin Kim
;
Minsoo Kang
;
Sungwook Hwang
;
Jae-seok Yang
;
Mohammed Harb
;
Mohamed Al-Imam
;
Kareem Madkour
;
Wael ElManhawy
;
Joe Kwan
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability X》
|
2016年
关键词:
Multiple Patterning;
Test Macro Generation;
Litho Hotspot Detection;
Test Vehicle;
10.
Migrating from Older to Newer Technology Nodes and Discovering the Process Weak-Points
机译:
从旧技术节点迁移到新技术节点并发现过程薄弱环节
作者:
Linda Zhuang
;
Jenny Pang
;
Jessy Xu
;
Mengfeng Tsai
;
Xue Long Shi
;
Qing Wei Liu
;
Ellyn Yang
;
Yifan Zhang
;
Jason Sweis
;
Ya-Chieh Lai
;
Hua Ding
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability X》
|
2016年
关键词:
DRM;
Pattern Enumeration;
Process Weak-point;
Test Pattern;
Yield;
11.
Design Strategy for Integrating DSA Via Patterning in sub-7 nm Interconnects
机译:
在7纳米以下互连中集成通过图案化DSA的设计策略
作者:
Ioannis Karageorgos
;
Julien Ryckaert
;
Maryann C. Tung
;
H.-S. Philip Wong
;
Roel Gronheid
;
Joost Bekaert
;
Evangelos Karageorgos
;
Kris Croes
;
Geert Vandenberghe
;
Michele Stucchi
;
Wim Dehaene
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability X》
|
2016年
关键词:
directed self-assembly;
templated DSA;
via patterning;
DSA letters;
design;
cost function;
alphabet;
12.
Layout Decomposition and Synthesis for a Modular Technology to Solve the Edge-Placement Challenges by Combining Selective Etching, Direct Stitching, and Alternating-Material Self-Aligned Multiple Patterning Processes
机译:
模块化技术的布局分解与综合,通过组合选择性蚀刻,直接缝合和交替材料自对准多重图案化工艺来解决边缘布局难题
作者:
Hongyi Liu
;
Ting Han
;
Jun Zhou
;
Yijian Chen
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability X》
|
2016年
关键词:
edge-placement errors (EPE);
selective etching;
alternating-material (dual-material) self-aligned multiple patterning (altSAMP);
alternating-material (dual-material) self-aligned quadruple/sextuple patterning (altSAQP/altSASP);
direct stitching;
layout decomposition and synthesis;
13.
The new analysis method of PWQ in the DRAM Pattern
机译:
DRAM模式下PWQ的新分析方法
作者:
Daehan Han
;
Jinman Chang
;
Taeheon Kim
;
Kyusun Lee
;
Yonghyeon Kim
;
Jinyoung Kang
;
Aeran Hong
;
Bumjin Choi
;
Joosung Lee
;
Hyoung Jun Kim
;
Kweonjae Lee
;
Hyoungsun Kim
;
Gyoyoung Jin
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability X》
|
2016年
关键词:
Process Window Qualification (PWQ);
die to data base matching;
quantitative analysis;
14.
Estimate Design sensitivity to process variation for the 14nm node
机译:
评估14nm节点对工艺变化的设计敏感性
作者:
Guillaume Landie
;
Vincent Farys
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability X》
|
2016年
关键词:
Overlay;
Process Window variation;
Design Rules Optimization;
15.
Design space exploration for early identification of yield limiting patterns
机译:
设计空间探索以及早发现产量限制模式
作者:
Helen Li
;
Elain Zou
;
Robben Lee
;
Sid Hong
;
Square Liu
;
JinYan Wang
;
Chunshan Du
;
Recco Zhang
;
Kareem Madkour
;
Hussein Ali
;
Danny Hsu
;
Aliaa Kabeel
;
Wael ElManhawy
;
Joe Kwan
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability X》
|
2016年
关键词:
DFM;
Design Space Exploration (DSE);
Layout Schema Generator (LSG);
Hotspot Variation Flow (HSV);
Pattern Library;
Litho Hotspot Detection;
Design Technology Co-Optimization (DTCO);
16.
An Integrated Design-to-Manufacturing Flow for SADP
机译:
SADP的集成设计到制造流程
作者:
Ahmed Hamed Fatehy
;
Rehab Kotb
;
James Word
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability X》
|
2016年
关键词:
SADP;
SADP-Line-End-Cuts;
SADP-OPC;
SADP-Verification;
SADP-DFM;
Manufacturing-Flow;
Multi-Patterning;
SADP-DTCO;
SADP-LPE;
17.
Electron beam lithography with character projection exposure for throughput enhancement with line-edge quality optimization
机译:
带有字符投影曝光的电子束光刻技术,可通过线边缘质量优化提高产量
作者:
Rimon Ikeno
;
Satoshi Maruyama
;
Yoshio Mita
;
Makoto Ikeda
;
Kunihiro Asada
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability X》
|
2016年
关键词:
electron beam lithography;
direct writing;
character projection;
variable shaped beam;
MEMS;
integrated optics;
line edge roughness;
Hydrogen Silsesquioxane;
18.
Expanding the Printable Design Space for Lithography Processes Utilizing a Cut Mask
机译:
利用切割掩模扩大光刻工艺的可打印设计空间
作者:
Jerome Wandell
;
Mohamed Salama
;
William Wilkinson
;
Mark Curtice
;
Jui-Hsuan Feng
;
Shao Wen Gao
;
Abhishek Asthana
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability X》
|
2016年
关键词:
Self-Aligned Double Patterning (SADP);
Cut Mask;
Optical Proximity Correction (OPC);
OPC Repair Flow;
Dipole Illumination;
Design Enablement;
Lithography;
low-k1 Imaging;
Forbidden Pitch;
Optical Rule Check (ORC);
19.
Advanced DFM application for automated bit-line pattern dummy
机译:
先进的DFM应用程序用于自动位线图案虚拟
作者:
Tae Hyun Shin
;
Cheolkyun Kim
;
Hyunjo Yang
;
Mohamed Bahr
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability X》
|
2016年
关键词:
DFM;
bit-line;
pattern dummy;
physical verification;
20.
Building block style recipes for productivity improvement in OPC, RET and ILT flows
机译:
用于提高OPC,RET和ILT流程生产率的构建块样式配方
作者:
Linghui Wu
;
Denny Kwa
;
Jinyin Wan
;
Tom Wang
;
Matt St. John
;
Steven Deeth
;
Xiaohui Chen
;
Tom Cecil
;
Xiaodong Meng
;
Kevin Lucas
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability X》
|
2016年
关键词:
Optical Proximity Correction (OPC);
Hot-spot fixing (HSF);
193nm lithography;
Inverse lithography (ILT);
lithographic verification (LRC);
21.
LELE CD Bias Offset Monitor through OVL Measurement
机译:
通过OVL测量进行LELE CD偏置偏移监控
作者:
Chia Ching Lin
;
En Chuan Lio
;
Chang Mao Wang
;
Howard Chen
;
Sho Shen Lee
;
Henry Hsing
;
Kince Liu
;
Nuriel Amir
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability X》
|
2016年
关键词:
Double patterning;
LELE;
etching CD bias;
Triple AIM;
Mark segmentation;
22.
Toward The 5nm Technology: Layout Optimization and Performance Benchmark for Logic/SRAMs Using Lateral and Vertical GAA FETs
机译:
迈向5nm技术:使用横向和纵向GAA FET的逻辑/ SRAM的布局优化和性能基准
作者:
Trong Huynh-Bao
;
Julien Ryckaert
;
Sushil Sakhare
;
Abdelkarim Mercha
;
Diederik Verkest
;
Aaron Thean
;
Piet Wambacq
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability X》
|
2016年
关键词:
5nm technology;
6T-SRAMs;
CMOS scaling;
disruptive transistor;
DTCO;
EUVL;
lateral GAA FETs;
nanowire;
standard-cells;
vertical GAA FETs;
23.
Directed Self-Assembly Aware Restricted Design Rule and its Impact on Design-ability
机译:
定向自组装感知受限设计规则及其对设计能力的影响
作者:
Yulu Chen
;
Ryoung-han Kim
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability X》
|
2016年
关键词:
Directed Self-Assembly (DSA);
Grapho-Epitaxy;
Restricted Design Rules (RDR);
Design Rule Check (DRC);
Full Chip;
24.
Integrated Layout Based Monte-Carlo Simulation for Design Arc Optimization
机译:
基于集成布局的蒙特卡洛仿真,用于设计电弧优化
作者:
Dongbing Shao
;
Larry Clevenger
;
Lei Zhuang
;
Lars Liebmann
;
Robert Wong
;
James Culp
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability X》
|
2016年
关键词:
design rule;
design arc;
design technology co-optimization;
design for manufacturing;
monte carlo simulation;
layout based monte carlo simulation;
25.
Methodology for analyzing and quantifying design style changes and complexity using topological patterns
机译:
使用拓扑模式分析和量化设计样式更改和复杂性的方法
作者:
Jason P. Cain
;
Ya-Chieh Lai
;
Frank Gennari
;
Jason Sweis
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability X》
|
2016年
26.
Methodology to Extract, Data Mine and Score Geometric Constructs from Physical Design Layouts for Analysis and Applications in Semiconductor Manufacturing
机译:
从物理设计布局中提取,挖掘数据和对几何构造进行评分的方法,用于半导体制造中的分析和应用
作者:
Piyush Pathak
;
Karthik Krishnamoorthy
;
Wei-Long Wang
;
Ya-Chieh Lai
;
Frank E. Gennari
;
Shikha Somani
;
Bob Pack
;
Uwe Paul Schroeder
;
Fadi Batarseh
;
Jaime Bravo
;
Jason Sweis
;
Philippe Hurat
;
Sriram Madhavan
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability X》
|
2016年
27.
Optimization of Self-Aligned Double Patterning (SADP)-compliant layout designs using pattern matching for 10nm technology nodes and beyond
机译:
使用针对10nm及更高工艺节点的图案匹配来优化符合自对准双图案(SADP)的布局设计
作者:
Lynn T.-N. Wang
;
Uwe Paul Schroeder
;
Youngtag Woo
;
Jia Zeng
;
Sriram Madhavan
;
Luigi Capodieci
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability X》
|
2016年
关键词:
DFM;
SADP;
line-cut decomposition;
cut masks;
line ends;
pattern matching;
layout optimization;
lithography hotspots;
28.
Variability-Aware Compact Modeling and Statistical Circuit Validation on SRAM Test Array
机译:
SRAM测试阵列上的可变性紧凑型建模和统计电路验证
作者:
Ying Qiao
;
Costas J. Spanos
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability X》
|
2016年
关键词:
compact model characterization;
statistical circuit simulation;
SRAM test array;
29.
Modeling Interconnect Corners under Double Patterning Misalignment
机译:
双图案不对准下的互连角建模
作者:
Daijoon Hyun
;
Youngsoo Shin
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability X》
|
2016年
30.
Automatic Layout Feature Extraction for Lithography Hotspot Detection Based on Deep Neural Network
机译:
基于深度神经网络的光刻热点自动布局特征提取
作者:
Tetsuaki Matsunawa
;
Shigeki Nojima
;
Toshiya Kotani
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability X》
|
2016年
关键词:
Lithography;
Hotspot Detection;
Feature Extraction;
Machine Learning;
Deep Neural Network;
31.
Hotspot Detection and Removal Flow Using Multi-Level Silicon-Calibrated CMP Models
机译:
使用多层硅校准CMP模型的热点检测和去除流程
作者:
Ushasree Katakamsetty
;
Jansen Chee
;
Yongfu Li
;
Colin Hui
;
Jaime Bravo
;
Tamba Gbondo-Tugbawa
;
Brian Lee
;
Kuang-Han Chen
;
Aaron Gower-Hall
;
Sang-Min Han
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability X》
|
2016年
关键词:
Chemical Mechanical Polishing (CMP);
Topography Variation;
Height Variation;
Hotspots;
Pooling;
Depth of Focus (DOF);
Hotspot Clustering;
32.
Triple/Quadruple Patterning Layout Decomposition via Novel Linear Programming and Iterative Rounding
机译:
通过新颖的线性规划和迭代舍入的三重/四重图案布局分解
作者:
Yibo Lin
;
Xiaoqing Xu
;
Bei Yu
;
Ross Baldick
;
David Z. Pan
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability X》
|
2016年
33.
Enablement of DSA for VIA layer in a SIT process flow
机译:
在SIT处理流程中为VIA层启用DSA
作者:
L. Schneider
;
V. Farys
;
E. Serret
;
C. Fenouillet-Beranger
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability X》
|
2016年
关键词:
DSA;
SIT;
Co-optimization;
Design rules;
Percolation;
34.
Metal stack optimization for low power and high density for N7-N5
机译:
针对N7-N5的低功率和高密度的金属堆叠优化
作者:
P. Raghavan
;
F. Firouzi
;
L. Matti
;
P. Debacker
;
R. Baert
;
S. M. Y. Sherazi
;
D. Trivkovic
;
V. Gerousis
;
M. Dusa
;
J. Ryckaert
;
Z. Tokei
;
D. Verkest
;
G. McIntyre
;
K. Ronse
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability X》
|
2016年
35.
Verification and application of multi-source focus quantification
机译:
多源焦点量化的验证与应用
作者:
J-G. Simiz
;
T. Hasan
;
F. Staals
;
B. Le-Gratiet
;
W.T. Tel
;
C.Prentice
;
J-W. Gemmink
;
A. Tishchenko
;
Y. Jourlin
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability X》
|
2016年
关键词:
Depth of focus;
intrafield;
scanner leveling;
topography;
scanner;
product design layout effect;
PLS regression analysis;
36.
A Comparative Study on the Yield Performance of Via Landing and Direct Stitching Processes for 2-D Pattern Connection
机译:
二维图案连接的通孔着陆和直接缝合工艺的产量性能比较研究
作者:
Jun Zhou
;
Yijian Chen
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability X》
|
2016年
关键词:
via landing;
direct stitching;
edge-placement errors (EPE);
probability of success (POS);
37.
Interlayer Design Verification methodology using contour image
机译:
使用轮廓图的层间设计验证方法
作者:
Minyoung-Shim
;
Seoksan-Kim
;
Sungmin-Park
;
Seiryung-Choi
;
Namjung-Kang
;
Hyunju-Sung
;
Jinwoo-Choi
;
Jaepil-Shin
;
Jaekyun-Park
;
Myungseob-Shim
;
Hyeongsun-Hong
;
Kyupil-Lee
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability X》
|
2016年
关键词:
Interlayer Design Verification;
Contour;
non-destructive inspection;
statistical analysis;
massive data;
38.
Design Technology Co-optimization for 14/10nm Metal1 Double Patterning Layer
机译:
14 / 10nm Metal1双图案层的设计技术共同优化
作者:
Yingli Duan
;
Xiaojing Su
;
Ying Chen
;
Yajuan Su
;
Feng Shao
;
Recco Zhang
;
Junjiang Lei
;
Yayi Wei
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability X》
|
2016年
关键词:
DTCO;
double patterning;
Design rule optimization;
IC manufacture;
Lithography technology;
39.
Using pattern analysis methodology to do fast detection of manufacturing pattern failure.
机译:
使用模式分析方法来快速检测制造模式故障。
作者:
Evan Zhao
;
Jessie Wang
;
Mason Sun
;
Jeff Wang
;
Yifan Zhang
;
Jason Sweis
;
Ya-Chieh Lai
;
Hua Ding
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability X》
|
2016年
关键词:
Pattern;
DFT;
systematic design failure;
electrical failure analysis;
yield;
40.
Rapid recipe formulation for plasma etching of new materials
机译:
快速配方配方,用于新材料的等离子蚀刻
作者:
Meghali Chopra
;
Zizhuo Zhang
;
John Ekerdt
;
Roger T. Bonnecaze
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability X》
|
2016年
关键词:
experimental design;
etching;
recipe creation and optimization;
Bayesian;
41.
Characterization of Shallow Trench Isolation CMP Process and Its Application
机译:
浅沟槽隔离CMP工艺的表征及其应用
作者:
Helen Li
;
ChunLei Zhang
;
JinBing Liu
;
ZhengFang Liu
;
Kuang Han Chen
;
Tamba Gbondo-Tugbawa
;
Hua Ding
;
Flora Li
;
Brian Lee
;
Aaron Gower-Hall
;
Yang-Chih Chiu
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability X》
|
2016年
关键词:
Chemical Mechanical Polishing (CMP);
Shallow Trench Isolation (STI);
Back-End-Of-Line (BEOL);
Front-End-Of-Line (FEOL);
42.
WAFER HOTSPOT PREVENTION USING ETCH AWARE OPC CORRECTION
机译:
使用ETCH AWARE OPC校正防止晶圆热斑
作者:
Ayman Hamouda
;
Dave Power
;
Mohamed Salama
;
Chen AO
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability X》
|
2016年
关键词:
Etch Model;
Etch Correction;
Optical Proximity Correction (OPC);
OPC Repair Flow;
Design Enablement;
Lithography;
Optical Rule Check (ORC);
43.
Hybrid Pattern Matching Based SRAF Placement
机译:
基于混合模式匹配的SRAF放置
作者:
Ahmed Omran
;
Andrey Lutich
;
Uwe Paul Schroeder
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability X》
|
2016年
关键词:
SRAF;
Pattern Matching;
DFM;
ILT;
Assist Feature;
OPC;
28nm;
SRAF-POP;
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