The University of Texas at Austin, McKetta Department of Chemical Engineering 200 E. Dean Keeton St. Austin, TX 78712;
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The University of Texas at Austin, McKetta Department of Chemical Engineering 200 E. Dean Keeton St. Austin, TX 78712;
The University of Texas at Austin, McKetta Department of Chemical Engineering 200 E. Dean Keeton St. Austin, TX 78712;
experimental design; etching; recipe creation and optimization; Bayesian;
机译:使用CO / NH3气体等离子体对磁性材料(Co,Fe,Ni)进行刻蚀的特性,以进行掩模刻蚀
机译:通过电感耦合等离子体的单晶金刚石的反应离子蚀刻:食谱的最新和食谱目录
机译:开发用于最大掩模蚀刻的过程配方和具有垂直侧壁的最大蚀刻速率,用于深度,高度各向异性电感耦合等离子体(ICP)蚀刻熔融二氧化硅的蚀刻
机译:用于血浆蚀刻新材料的快速配方配方
机译:用于电子材料蚀刻的高密度电子回旋共振和感应耦合等离子体源的比较:电子材料的新等离子体蚀刻方案。
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机译:高密度BCL3和BCL3 / AR中的GaAs和Algaas半导体材料的干蚀刻电感耦合等离子体
机译:等离子体和离子蚀刻用于失效分析。第2部分。使用Technics Giga Etch 100-E等离子蚀刻系统对塑料封装和其他半导体器件材料进行蚀刻