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机译:使用CO / NH3气体等离子体对磁性材料(Co,Fe,Ni)进行刻蚀的特性,以进行掩模刻蚀
Magnetic materials; Nife; Coh3 high-density helicon plasma; Hm-etching; Ti; Ta; Magnetic random access memory (mram); Tunneling magnet-resistive multi-layers (tmr);
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