University of California, Berkeley.;
机译:利用Ar等离子体刻蚀的器件隔离工艺制造高k /金属栅MoS2场效应晶体管
机译:III-V型金属氧化物半导体场效应晶体管的亚100纳米铂栅极线低损伤刻蚀工艺及SF_6 / C_4F_8电感耦合等离子体的发射光谱
机译:电子回旋共振等离子体刻蚀制备的金刚石薄膜凹栅场效应晶体管
机译:基于卤原子的等离子体对硅锗的反应离子刻蚀
机译:复杂氧化物薄膜的基于卤素的等离子体刻蚀动力学模型及其在预测特征轮廓模拟中的应用。
机译:顶部栅极石墨烯场效应晶体管中金属石墨烯触点的栅极控制肖特基势垒降低的物理模型
机译:场效应晶体管:多层MOS2场效应晶体管的阈值电压控制通过十八烷基氯硅烷及其应用于由增强模式逻辑门驱动的有源矩阵量子点显示器(小7/2019)