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Dielectrics for nanosystems 6: Materials science, processing, reliability, and manufacturing
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Investigation of Strong Metallic Ta Reduction in ZrO_2/Ta_2O_5 Multi-laminate Layer Growth
机译:
ZrO_2 / Ta_2O_5多层板生长中强金属Ta还原的研究
作者:
H. C. Cho
;
K. W. Park
;
J. H. Ahn
;
C. H. Park
;
H. J. Cho
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S. J. Yeom
;
K. Hong
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N. J. Kwak
会议名称:
《Dielectrics for nanosystems 6: Materials science, processing, reliability, and manufacturing》
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2014年
2.
High Pressure Sputtering For Kigh-k Dielectric Deposition. Is It Worth Trying?
机译:
用于Kigh-k介电沉积的高压溅射。值得尝试吗?
作者:
E. San Andres
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P. C. Feijoo
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M. A. Pampillon
;
M. L. Lucia
;
A. del Prado
会议名称:
《Dielectrics for nanosystems 6: Materials science, processing, reliability, and manufacturing》
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2014年
3.
Charge Trapping Characterization of LaLuO_3/p-Si Interfaces at Cryogenic Temperatures
机译:
低温下LaLuO_3 / p-Si界面的电荷陷阱表征
作者:
I.P. Tyagulskyy
;
S.I. Tiagulskyi
;
A.N.Nazarov
;
V.S. Lysenko
;
P. K. Hurley
;
K. Cherkaoui
;
S. Monaghan
会议名称:
《Dielectrics for nanosystems 6: Materials science, processing, reliability, and manufacturing》
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2014年
4.
Passivation Schemes for Ge High-K Metal Gate MOSFETs on Si for VLSI Production
机译:
用于VLSI生产的Si上Ge高K金属栅MOSFET的钝化方案
作者:
K. Tapily
;
T. Ngai
;
R.D. Clark
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D. OMeara
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S. Consiglio
;
R. Gaylord
;
C.S. Wajda
;
D. Veksler
;
C. Hobbs
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K. Matthews
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D.C Gilmer
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2014年
5.
Selective-Area Metal Organic Vapor-Phase Epitaxy of InGaAs/InP Heterostrucures On Si For Advanced CMOS Devices
机译:
用于先进CMOS器件的Si上InGaAs / InP杂结构的选择性区域金属有机气相外延
作者:
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Atomic Layer Deposition of HfO_2 Using HF Etched Thermal and RTP SiO_2 as Interfacial Layers
机译:
HF刻蚀热和RTP SiO_2作为界面层沉积HfO_2的原子层
作者:
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会议名称:
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7.
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机译:
使用室温光致发光的介电/硅界面质量表征
作者:
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;
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2014年
8.
Light Wavelength Effects on Charge Trapping and Detrapping of AlO_x Embedded ZrHfO High-k Stack
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光波长对AlO_x嵌入式ZrHfO高k堆栈的电荷陷阱和去陷阱的影响
作者:
Xi Liu
;
Yue Kuo
;
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;
Tao Yuan
会议名称:
《Dielectrics for nanosystems 6: Materials science, processing, reliability, and manufacturing》
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2014年
9.
Comparaison Between Equilibrium Voltage Step and Charge Pumping Techniques for Characterizing Near Si-SiO_2 Interface Traps
机译:
平衡电压阶跃和电荷泵技术表征近Si-SiO_2界面陷阱的比较
作者:
N. Guenifi
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D.Bauza
会议名称:
《Dielectrics for nanosystems 6: Materials science, processing, reliability, and manufacturing》
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10.
Dependence of the Multi-Component nature of Bias Temperature Instability in MOSFETs on Oxide and Device Type
机译:
MOSFET偏置温度不稳定性的多组分性质对氧化物和器件类型的依赖性
作者:
D. D. Nguyen
;
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;
C. Kouhestani
;
R. A. B. Devine
会议名称:
《Dielectrics for nanosystems 6: Materials science, processing, reliability, and manufacturing》
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Replacement Metal Gate/High-k Last Technology for Aggressively Scaled Planar and FinFET-based Devices
机译:
用于大规模缩放的平面和基于FinFET的器件的替代金属栅极/ High-k Last技术
作者:
A. Veloso
;
J. W. Lee
;
E. Simoen
;
L.-A. Ragnarsson
;
H. Arimura
;
M. J. Cho
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;
A. Thean
;
N. Horiguchi
会议名称:
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12.
Modeling the Influence of Interface Traps on the Transfer Characteristics of InAs Tunnel-FETs and MOSFETs
机译:
模拟界面陷阱对InAs隧道FET和MOSFET的传输特性的影响
作者:
M. G. Pala
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D. Esseni
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13.
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14.
Characteristics of charge trap flash memory with Al_2O_3/(Ta/Nb)O_x/Al_2O_3 multi-layer
机译:
Al_2O_3 /(Ta / Nb)O_x / Al_2O_3多层电荷陷阱闪存的特性
作者:
T. Nabatame
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;
K. Ito
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M. Takahashi
;
T. Chikyo
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《Dielectrics for nanosystems 6: Materials science, processing, reliability, and manufacturing》
|
2014年
15.
Photoelectron Spectroscopic Study on High-k Dielectrics Based Nanoionics-Type ReRAM Structure under Bias Operation
机译:
偏置操作下基于高k电介质的纳米离子型ReRAM结构的光电子能谱研究
作者:
T. Nagata
;
Y. Yamashita
;
H. Yoshikawa
;
K. Kobayashi
;
T. Chikyow
会议名称:
《Dielectrics for nanosystems 6: Materials science, processing, reliability, and manufacturing》
|
2014年
16.
Temperature Impact on Reliability and Manufacturing of Embedded HfOx-Based RRAM: a Novel Pre-coding Method for Bypassing Soldering Reflow
机译:
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作者:
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《》
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2014年
17.
Resistive switching and current status of HfO_2-based RRAM
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作者:
Ch. Walczyk
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D. Walczyk
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T. Schroeder
会议名称:
《Dielectrics for nanosystems 6: Materials science, processing, reliability, and manufacturing》
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18.
Fabrication and Dielectric Properties of BaTiO_3 Thin Films on Polycrystalline Ni Foils
机译:
多晶镍箔上BaTiO_3薄膜的制备及介电性能
作者:
H. Du
;
W. Liang
;
M. Gao
;
Y. Zhang
;
C. L. Chen
;
Y. Lin
会议名称:
《Dielectrics for nanosystems 6: Materials science, processing, reliability, and manufacturing》
|
2014年
19.
The Improvement of FN degradation in 3-Dimension TR
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3维TR中FN退化的改善
作者:
Sung Yeob Ha
;
Se Geun Park
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Shin Deuk Kim
;
Hyun Chul Kim
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会议名称:
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|
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20.
Dielectrics for Graphene Transistors for Emerging Integrated Circuits
机译:
新兴集成电路石墨烯晶体管的电介质
作者:
Ashok Srivastava
;
Yaser M. Banadaki
;
S. Fahad
会议名称:
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|
2014年
21.
Sputtered Metal Oxide Broken Gap Junctions
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溅射金属氧化物断裂的缝隙连接
作者:
Stephen Campbell
;
Forrest Johnson
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Sreejith Karthikeyan
;
Sang-Ho Song
;
Richard Liptak
;
Brian Benton
会议名称:
《Dielectrics for nanosystems 6: Materials science, processing, reliability, and manufacturing》
|
2014年
22.
Thermochromic Phase Transitions in VO_2-based Thin Films for Energy-Saving Applications
机译:
节能应用中基于VO_2的薄膜中的热致变色相变
作者:
S. C. Barren
;
J. M. Gorham
;
M. L. Green
会议名称:
《Dielectrics for nanosystems 6: Materials science, processing, reliability, and manufacturing》
|
2014年
23.
An Etch Stop and Sacrificial Materials Study for 3D NEMS-CMOS Co-integration
机译:
3D NEMS-CMOS共集成的蚀刻停止和牺牲材料研究
作者:
J. Philippe
;
I. Ouerghi
;
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S. Hentz
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J. Arcamone
;
T. Ernst
会议名称:
《Dielectrics for nanosystems 6: Materials science, processing, reliability, and manufacturing》
|
2014年
24.
Tuning Dielectric Properties of Epitaxial Lanthanide Oxides on Silicon
机译:
调整硅上外延镧系氧化物的介电性能
作者:
H.J. Osten
;
D. Schwendt
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A.R. Chaudhuri
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A. Fissel
;
P. Shekhter
;
M. Eizenberg
会议名称:
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2014年
25.
Electrical Characterization of Defects in Al_2O_3
机译:
Al_2O_3中缺陷的电学表征
作者:
A. Schmid
;
F. Kersten
;
S. Rentrop
;
B. Abendroth
;
D. C. Meyer
;
J. Heitmann
会议名称:
《Dielectrics for nanosystems 6: Materials science, processing, reliability, and manufacturing》
|
2014年
26.
Cyclic Plasma Treatment during ALD Hf_(1-x)Zr_xO_2 Deposition
机译:
ALD Hf_(1-x)Zr_xO_2沉积过程中的循环等离子体处理
作者:
M. N. Bhuyian
;
D. Misra
;
K. Tapily
;
R. D. Clark
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S. Consiglio
;
C. S. Wajda
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;
G. J. Leusink
会议名称:
《Dielectrics for nanosystems 6: Materials science, processing, reliability, and manufacturing》
|
2014年
27.
Measuring CET of High-K Dielectrics with Novel Kinetic Approach Using Micro-Site Corona - Kelvin Method
机译:
微站点电晕-开尔文方法以新颖的动力学方法测量高K电介质的CET
作者:
D. Marinskiy
;
T.C. Loy
;
H.C. Yeh
;
M. Wilson
;
J. Lagowski
会议名称:
《Dielectrics for nanosystems 6: Materials science, processing, reliability, and manufacturing》
|
2014年
28.
Interface Engineering Routes for a Future CMOS Ge-based Technology
机译:
未来基于CMOS Ge的技术的接口工程路线
作者:
I. Z. Mitrovic
;
M. Althobaiti
;
A. D. Weerakkody
;
N. Sedghi
;
S. Hall
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V. R. Dhanak
;
S. Mather
;
P. R. Chalker
;
D. Tsoutsou
;
A. Dimoulas
;
C. Henkel
;
E. Dentoni Litta
;
P.-E. Hellstroem
;
M. OEstling
会议名称:
《Dielectrics for nanosystems 6: Materials science, processing, reliability, and manufacturing》
|
2014年
29.
Atomic-Order Thermal Nitridation of Si, Si_(1-x)Ge_x and Ge by NH_3
机译:
NH_3对Si,Si_(1-x)Ge_x和Ge的原子级热氮化
作者:
Junichi Murota
;
Masao Sakuraba
;
Bernd Tillack
会议名称:
《Dielectrics for nanosystems 6: Materials science, processing, reliability, and manufacturing》
|
2014年
30.
High κ/InGaAs for Ultimate CMOS - Interfacial Passivation, Low Ohmic Contacts, and Device Performance (Invited)
机译:
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作者:
W. H. Chang
;
T. D. Lin
;
M. H. Liao
;
T. W. Pi
;
J. Kwo
;
M. Hong
会议名称:
《Dielectrics for nanosystems 6: Materials science, processing, reliability, and manufacturing》
|
2014年
31.
Frequency dispersion and band alignments in ZrO_2-GaAs MOS capacitor
机译:
ZrO_2 / n-GaAs MOS电容器的频散和能带对准
作者:
R.B. Konda
;
C. White
;
D. Thomas
;
Q. Yang
;
D. Sahu
;
A.K. Pradhan
会议名称:
《Dielectrics for nanosystems 6: Materials science, processing, reliability, and manufacturing》
|
2014年
32.
Understanding of Growth Kinetics of Thermal Oxides on 4H-SiC (0001) for Control of MOS Characteristics
机译:
了解用于控制MOS特性的4H-SiC(0001)上热氧化物的生长动力学
作者:
K. Kita
;
R. H. Kikuchi
;
H. Hirai
会议名称:
《Dielectrics for nanosystems 6: Materials science, processing, reliability, and manufacturing》
|
2014年
33.
Characterization of a Novel Radical Nitrogen Plasma Source for Semiconductor Nitridation
机译:
用于半导体氮化的新型自由基氮等离子体源的表征
作者:
A. T. Lucero
;
T. Cho
;
J. Kim
会议名称:
《Dielectrics for nanosystems 6: Materials science, processing, reliability, and manufacturing》
|
2014年
34.
Temperature Dependence of Defect Evolution and Distribution in Thermally Cycled Cu-TSVs
机译:
热循环Cu-TSV中缺陷演化和分布的温度依赖性
作者:
J. Marro
;
C. Okoro
;
Y. Obeng
;
K. Richardson
;
K. Chamma
会议名称:
《Dielectrics for nanosystems 6: Materials science, processing, reliability, and manufacturing》
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2014年
35.
Scanning Probe Microscopes for Subsurface Imaging
机译:
用于地下成像的扫描探针显微镜
作者:
Joseph Kopanski
;
Lin You
;
Jung-Joon Ahn
;
Emily Hitz
;
Yaw Obeng
会议名称:
《Dielectrics for nanosystems 6: Materials science, processing, reliability, and manufacturing》
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2014年
36.
Gate Stacks for Silicon, Silicon Germanium, and Ⅲ-Ⅴ Channel MOSFETs
机译:
硅,硅锗和Ⅲ-Ⅴ沟道MOSFET的栅极叠层
作者:
Martin M. Frank
;
Yu Zhu
;
Stephen W. Bedell
;
Takashi Ando
;
Vijay Narayanan
会议名称:
《Dielectrics for nanosystems 6: Materials science, processing, reliability, and manufacturing》
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2014年
37.
Integration of Advanced MOSFET Device with Dual Effective Band Edge Work Function Metals Using both HK and MG Last Scheme
机译:
使用HK和MG Last方案将高级MOSFET器件与双有效带边缘功函数金属集成
作者:
Zhaoyun Tang
;
Bo Tang
;
Jing Xu
;
Yefeng Xu
;
Hongli Wang
;
Junfeng Li
;
Jiang Yan
;
Chao Zhao
会议名称:
《Dielectrics for nanosystems 6: Materials science, processing, reliability, and manufacturing》
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2014年
38.
High-k Dielectrics And High Work Function Metals For Hybrid Floating Gate NAND Flash Applications
机译:
用于混合浮栅NAND闪存应用的高k电介质和高功函数金属
作者:
J.G. Lisoni
;
L. Breuil
;
P. Blomme
;
F. De Stefano
;
V. V. Afanasev
;
G. Van den bosch
;
J. Van Houdt
会议名称:
《Dielectrics for nanosystems 6: Materials science, processing, reliability, and manufacturing》
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2014年
39.
Octadecylphosphonic Acid Self-Assembled Monolayers in Low Voltage Electrowetting-on-Dielectric Systems
机译:
低压电润湿介电系统中的十八烷基膦酸自组装单层
作者:
M. Mibus
;
X. Hu
;
C. Knospe
;
M. L. Reed
;
G. Zangari
会议名称:
《Dielectrics for nanosystems 6: Materials science, processing, reliability, and manufacturing》
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2014年
40.
Nano-Derived Microsensors for Monitoring Gas Species in Harsh-Environments
机译:
用于监测恶劣环境中气体种类的纳米衍生微传感器
作者:
Edward M. Sabolsky
;
Engin Ciftyuerek
;
Christina Wildfire
;
Katarzyna Sabolsky
;
Jonathan Taub
;
Kostantinos Sierros
;
Thomas H. Evans
会议名称:
《Dielectrics for nanosystems 6: Materials science, processing, reliability, and manufacturing》
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2014年
41.
Flattening Technique of (551) Silicon Surface Using Xe/H_2 Plasma
机译:
Xe / H_2等离子对(551)硅表面进行平坦化的技术
作者:
Tomoyuki Suwa
;
Akinobu Teramoto
;
Shigetoshi Sugawa
;
Tadahiro Ohmi
会议名称:
《Dielectrics for nanosystems 6: Materials science, processing, reliability, and manufacturing》
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2014年
42.
PREFACE
机译:
前言
作者:
D. Misra
;
D. Bauza
;
Z. Chen
;
Yaw Obeng
;
T. Chikyow
;
H. Iwai
会议名称:
《Dielectrics for nanosystems 6: Materials science, processing, reliability, and manufacturing》
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2014年
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