机译:电子回旋共振等离子体法沉积氮化硅薄膜的键结构和氢含量
Departamento de Electronica y Tecnologia de Computadoras, Universidad Politecnica de Cartagena, Campus Universitario Muralla del Mar, 30202 Cartagena, Spain;
silicon nitride; hydrogen; bonding energy; network bond reactions;
机译:电子回旋共振等离子体沉积的氮化硅薄膜增强了微机械系统应用中的化学气相沉积
机译:电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积微细加工过程中氮化硅薄膜的应力和成分分析
机译:电子回旋共振(ECR)等离子体增强化学气相沉积法沉积氮化硅薄膜的湿法刻蚀研究
机译:电子回旋谐振等离子体增强化学气相沉积沉积硅氧氮薄膜的特性
机译:微波等离子体电子回旋共振化学气相沉积法沉积的纳米晶和非晶硅薄膜晶体管:材料分析,器件制造和表征。
机译:N2:(N2 + CH4)比在低温等离子体增强化学气相沉积法生长疏水纳米结构氢化氮化碳薄膜中的作用研究
机译:电子回旋共振等离子体法沉积氮化硅薄膜的键结构和氢含量
机译:电子回旋共振等离子体辅助沉积碳氮化物薄膜的性质