电子回旋共振等离子体辅助的反应脉冲激光沉积方法制备氮化物薄膜

摘要

提出了一种电子回旋共振等离子体辅助的反应脉冲激光沉积方法，这一方法结合了反应脉冲激光沉积和电子回旋共振等离子体的特点。用这一方法尝试进行氮化硅薄膜，得到了成分分布均匀的膜层。这一方法也运用于制备其它化合物薄腰。