机译:在绝缘体上锗化硅(SGOI)上制造的应变硅/应变硅锗异质结构p-MOSFET中的空穴迁移率增强
AmberWave Systems Corp., NH, USA;
机译:通过SIMOX技术制造的绝缘体上SiGe衬底上的应变Si MOSFET的电子和空穴迁移率增强
机译:高Ge含量不对称应变SiGe p-MOSFET中的空穴迁移率提高
机译:用于纳米CMOS器件的带应变硅层的绝缘体上硅锗(SGOI)衬底的界面特性分析
机译:> 100 <沟道应变SiGe p-MOSFET,具有增强的空穴迁移率和较低的寄生电阻
机译:硫化铅纳米粒子掺杂聚合物中空穴迁移率的增强。
机译:钙钛矿型太阳能电池中LiTFSI掺杂Spiro-OMeTAD空穴传输层的等离子体暴露诱导迁移性增强及其对器件性能的影响
机译:垂直应变-SiGe碰撞电离MOSFET的流动性增强包括介电袋(VESIMOS-DP)