机译:SOI FinFET中总电离剂量效应的偏差和几何依赖性
Peking Univ Inst Microelect Beijing 100871 Peoples R China;
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Univ Calif Berkeley Dept Elect Engn & Comp Sci Berkeley CA 94720 USA;
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silicon-on-insulator FinFET; total-ionizing-dose; threshold voltage shift; worst-case bias condition; fin width; gate length;
机译:InGaAs量子阱MOSFET中总电离剂量效应的栅极偏置和几何依赖性
机译:14nm FinFET中的TID工艺,几何和偏置条件相关性分析以及对RF和SRAM性能的影响
机译:SiGe-
机译:SOI FinFET中的低功率应用中的体偏置效应:栅极长度依赖性
机译:体和SOI FinFET中的辐射引起的单事件瞬变(SET)效应以及与体CMOS的鲁棒性比较。
机译:改善酒精依赖中的偏倚:临床效果是否可以复制?对谁最有效?
机译:16 nm FinFET D触发器中单事件翻转的偏置相关性