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SOI finfet with reduced fin width dependence

机译:SOI鳍片,鳍片宽度依赖性降低

摘要

The present invention relates to a method for polarizing at least a first finfet transistor and a second finfet transistor, wherein the first finfet transistor has a fin width bigger than the fin width of the second finfet transistor, and both the first finfet transistor and the second finfet transistor have a back gate, and the method comprising applying the same first voltage on the back gate of the first finfet transistor and on the back gate of the second finfet transistor so as to reduce the spread between the off-current value of the first finfet transistor and the off-current value of the second finfet transistor.
机译:本发明涉及一种至少使第一finfet晶体管和第二finfet晶体管极化的方法,其中第一finfet晶体管的鳍宽大于第二finfet晶体管的鳍宽,并且第一finfet晶体管和第二finfet晶体管均大于第二finfet晶体管的鳍宽。 finfet晶体管具有背栅,并且该方法包括在第一finfet晶体管的背栅和第二finfet晶体管的背栅上施加相同的第一电压,以减小第一finfet晶体管的截止电流值之间的展宽finfet晶体管和第二finfet晶体管的截止电流值。

著录项

  • 公开/公告号US9640664B2

    专利类型

  • 公开/公告日2017-05-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SOITEC;

    申请/专利号US201314428561

  • 发明设计人 FRANZ HOFMANN;

    申请日2013-09-10

  • 分类号H01L27/088;H01L29/78;H01L27/12;H01L27/02;H01L29/66;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 13:42:44

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