机译:强光子辐照下NEG材料(Ti-Zr-V)涂层二次电子和光电子产率的首次实验和模拟研究
Accelerator Laboratory, High Energy Accelerator Research Organization (KEK), 1-1 Oho, Tsukuba, Ibaraki 305-0801, Japan;
electron cloud instability; secondary electron yield; photoelectron yield; NEG; positron beam; coating;
机译:KEKB正电子环在强光子辐照下TiN涂层和NEG(Ti-Zr-V)涂层的光电子和二次电子产率的连续研究
机译:使用KEKB正电子环对TiN和NEG涂层的光电子和二次电子产率的最新研究
机译:CVD金刚石表面的氢终止和电子发射:二次电子发射,光电子发射显微镜,光电子产率和场发射研究的组合
机译:KEKB正电子环上的光电子和二次电子产量的光电子和二次电子产量研究
机译:通过X射线光电子能谱和飞行时间二次离子质谱法对聚合物材料进行表面表征:生物医学材料和法医学应用。
机译:快速质子撞击后薄金属箔的二次电子产率模拟
机译:对“关于'用强真空紫外线自由电子激光照射的氦原子的光电离的评论。第一部分。多光子和单光子过程的实验研究'”的答复