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降低陶瓷表面的光电子产率和/或二次电子产率的方法；相应的设备和产品

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摘要

一种降低陶瓷表面的光电子产率(PEY)和/或二次电子产率(SEY)的方法，包括向靶(10)的表面施加包括由激光器(4)发射的一系列激光脉冲的激光辐射以在所述靶(10)的表面上产生周期性布置的结构。

公开/公告号CN109070266B

专利类型发明专利
公开/公告日2021-05-18

原文格式PDF
申请/专利权人敦提大学;
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申请/专利号CN201780012612.4
发明设计人阿明·阿卜杜勒凡德;
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申请日2017-03-08
分类号B23K26/00(20140101);B23K26/0622(20140101);B23K26/082(20140101);B23K26/352(20140101);B23K103/04(20060101);B23K103/10(20060101);B23K103/12(20060101);B23K103/14(20060101);B23K101/32(20060101);B23K101/36(20060101);B23K103/00(20060101);
代理机构44503 深圳尚业知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人王利彬
地址英国敦提
入库时间 2022-08-23 11:49:22

1. 降低陶瓷表面的光电子产率和/或二次电子产率的方法；相应的设备和产品 [P] . 中国专利： CN109070266B . 2021.05.18
2. 降低陶瓷表面的光电子产率和/或二次电子产率的方法；相应的设备和产品 [P] . 中国专利： CN109070266A . 2018-12-21
3. Methods of reducing the photoelectron yield and / or secondary electron yield of ceramic surfaces, corresponding devices and products [P] . 韩国专利： KR20190015180A . 2019-02-13

机译：降低陶瓷表面的光电子产率和/或二次电子产率的方法，相应的装置和产品
4. Method of reducing photoelectron yield and / or secondary electron yield on ceramic surfaces and corresponding devices and products [P] . 日本专利： JP2019508256A . 2019-03-28

机译：降低陶瓷表面上的光电子产率和/或二次电子产率的方法以及相应的装置和产品
5. Method of reducing photoelectron yield and/or secondary electron yield of a ceramic surface; corresponding apparatus and product [P] . US10994369B2 . 2021-05-04

机译：降低光电子产量和/或陶瓷表面的二次电子产率的方法;相应的装置和产品