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Method of, and apparatus for, reducing photoelectron yield and/or secondary electron yield

机译:方法和装置的方法,降低光电子产量和/或二次电子产量

摘要

A method of reducing photoelectron yield (PEY) and/or secondary electron yield (SEY) of a surface of a target (10), comprises applying laser radiation to the surface of the target (10) to produce a periodic arrangement of structures on the surface, wherein the laser radiation comprises pulsed laser radiation comprising a series of laser pulses and the power density of the pulses is in a range 0.01 TW/cm2 to 3 TW/cm2, optionally 0.1 TW/cm2 to 3 TW/cm2.
机译:减少靶( 10)的表面( 10)的光电子产率(Pey)和/或二次电子屈光(Sey)的方法,包括将激光辐射施加到目标表面( 10 )以产生表面上的结构的周期性布置,其中激光辐射包括脉冲激光辐射,包括一系列激光脉冲,脉冲的功率密度为0.01-tw / cm 2 < / sup>至3 tw / cm 2 ,任选0.1w / cm 2 至3 tw / cm 2

著录项

  • 公开/公告号US11033985B2

    专利类型

  • 公开/公告日2021-06-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 UNIVERSITY OF DUNDEE;

    申请/专利号US201615739062

  • 发明设计人 AMIN ABDOLVAND;

    申请日2016-06-24

  • 分类号B23K26;B23K26/0622;B23K26/082;B23K26/352;B23K103/04;B23K103/06;B23K103/10;B23K103/12;B23K103/14;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-24 19:20:12

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