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用于降低光电子产率和/或二次电子产率的方法和装置

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摘要

一种降低靶标(10)的表面的光电子产率(PEY)和/或二次电子产率(SEY)的方法，所述方法包括向靶标(10)的表面施加激光辐射以在表面上产生周期性结构排列，其中所述激光辐射包括包含一系列激光脉冲的脉冲激光辐射并且所述脉冲的功率密度在0.01TW/cm

1. 用于降低光电子产率和/或二次电子产率的方法和装置 [P] . 中国专利： CN108260349B . 2020.07.03
2. 用于降低光电子产率和/或二次电子产率的方法和装置 [P] . 中国专利： CN108260349A . 2018-07-06
3. Apparatus and method thereof for reducing photoelectron yield and / or secondary electron yield [P] . 韩国专利： KR20180055798A . 2018-05-25

机译：用于降低光电子产率和/或二次电子产率的装置及其方法
4. Methods of reducing the photoelectron yield and / or secondary electron yield of ceramic surfaces, corresponding devices and products [P] . 韩国专利： KR20190015180A . 2019-02-13

机译：降低陶瓷表面的光电子产率和/或二次电子产率的方法，相应的装置和产品
5. Method of reducing photoelectron yield and / or secondary electron yield on ceramic surfaces and corresponding devices and products [P] . 日本专利： JP2019508256A . 2019-03-28

机译：降低陶瓷表面上的光电子产率和/或二次电子产率的方法以及相应的装置和产品