机译:通过金属有机化学气相沉积法生长的1.24-μmGaInNA激光器的室温连续波操作
III-V semiconductors; MOCVD; current density; gallium arsenide; indium compounds; infrared sources; laser transitions; optical fabrication; quantum well lasers; 1.24 mum; 1.245 mum; 113 K; GaAs substrate; GaInNAs; GaInNAs lasers; In content; high characteristic temperat;
机译:金属有机化学气相沉积生长的1.24- / splμm/ m GaInNAs激光器的室温连续波操作
机译:升压金属有机化学气相沉积法生长的GaN基激光二极管的室温连续波操作
机译:升压金属有机化学气相沉积法生长的GaN基激光二极管的室温连续波操作
机译:低压金属有机化学气相沉积法生长的InGaN / GaN多量子阱激光器的连续波室温操作
机译:通过固体源金属有机化学气相沉积法生长的外延氧化物薄膜。
机译:通过金属有机化学气相沉积法在c面GaN衬底上生长的富铝AlInN的结构特性
机译:使用二叔丁基硅烷金属有机源对金属有机化学气相沉积生长的氮化镓进行Si掺杂
机译:金属有机化学气相沉积法生长Inalp-InGaps超晶格的短波室温连续波激光器