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机译:使用CV技术改进了硅中掺杂分布的测量
机译:使用常规电位ostat在硅中的ECV掺杂轮廓测量
机译:硅MOS结构制造技术,CVC和噪声测量的简要概述
机译:硅中超窄掺杂分布的扫描电容显微镜测量的仿真
机译:电化学电容-电压测量的激光掺杂多晶硅晶片的掺杂曲线
机译:使用太赫兹时域光谱(THz-TDS)通过电化学阳极氧化法测量硅中的掺杂分布。
机译:通过辉光放电光谱研究掺杂元素来表征非晶硅薄膜。电导率和带隙能量测量的相关性
机译:补偿n型硅中掺杂浓度测量的表征技术比较
机译:溅射引发的共振电离光谱:半导体中杂质和超浅掺杂分布的定量和灵敏测量的分析技术