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使用硅纳米粒子流体以原位控制一组掺杂剂扩散分布的方法

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摘要

本发明公开了一种在基板上形成多掺杂结的方法。所述方法包括以下步骤：用硼原子掺杂所述基板的正面，并且以图案形式沉积油墨，所述油墨包含一组纳米粒子和一组溶剂；以及在烘焙环境中将所述基板加热至介于约200℃和约800℃之间的第一温度并持续介于约3分钟和约20分钟之间的第一时间段以生成致密膜油墨图案；将所述基板在第二温度下、在具有沉积环境的扩散炉中暴露于掺杂剂源并持续第二时间段，所述沉积环境包括POCh、N

著录项

公开/公告号CN102473592A

专利类型发明专利
公开/公告日2012-05-23

原文格式PDF
申请/专利权人英诺瓦莱特公司;
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申请/专利号CN201080033759.X
发明设计人 G·斯卡尔德拉;D·泊普拉维斯基;M·罗伯斯;S·夏;
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申请日2010-06-30
分类号H01L21/00;
代理机构上海专利商标事务所有限公司;
代理人朱黎明
地址美国加利福尼亚州
入库时间 2023-12-18 05:25:47

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2015-10-28

发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L21/00 申请公布日:20120523 申请日:20100630

发明专利申请公布后的视为撤回
2012-09-05

实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/00 申请日:20100630

实质审查的生效
2012-05-23

公开

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1. 使用硅纳米粒子流体以原位控制一组掺杂剂扩散分布的方法 [P] . 中国专利： CN102473592A . 2012-05-23
2. 使用一组硅纳米颗粒流体以原位控制一组掺杂剂扩散分布的方法 [P] . 中国专利： CN102668101A . 2012-09-12
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