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Erratic erase in flash memories - Part II: Dependence on operating conditions

机译:闪存中的不稳定擦除-第二部分:取决于工作条件

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摘要

For pt.I see ibid., vol.50, pp.1009-14 (2003). This paper presents experimental results about the erratic erase phenomena occurring in Flash Memories with the aim of providing a deeper insight into the physical nature of the phenomenon and to deepen the comprehension of charge trapping/detrapping dynamics in tunnel oxides during Fowler-Nordheim erase. The results obtained under different operating conditions as Program/Erase cycling, Ultra Violet light exposure, thermal stress and the analysis of the erratic erase behavior varying the erasing conditions and the tunnel oxide thickness, suggested also possible methods that can be used in order to reduce the erratic erase phenomena.
机译:关于pt,我参见同上,第50卷,第1009-14页(2003年)。本文介绍了有关闪存中出现的不稳定擦除现象的实验结果,目的是提供对该现象的物理性质的更深入了解,并加深对Fowler-Nordheim擦除过程中隧道氧化物中电荷陷阱/去陷阱动力学的理解。在不同的操作条件下(例如程序/擦除循环,紫外线曝光,热应力以及根据擦除条件和隧道氧化物厚度而变化的不稳定擦除行为的分析)所获得的结果,也建议了可以使用的方法来减少不稳定的擦除现象。

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