机译:使用CHE注入编程的SONOS闪存EEPROM中的陷阱电荷的横向分析
Channel-hot-electron (CHE) injection; Charge pumping (CP); Gate-induced drain leakage (GIDL); Nonuniform charge trapping; Silicon-oxide-nitride-oxide-silicon (SONOS) electrically erasable programmable read-only memories (EEPROMs);
机译:STI边缘效应对局部电荷陷阱SONOS闪存单元中编程干扰的影响
机译:电场诱导的SONOS闪存中的氮化物陷阱电荷横向迁移
机译:P-SONOS细胞装置中界面陷阱和陷阱电荷的侧面特征分析的综合表征方法
机译:用于SONOS闪存EEPROM的全面的陷阱电荷分析技术
机译:CMOS VLSI和EEPROMs绝缘子中电离辐射诱导的电荷陷阱和界面陷阱产生的研究。
机译:SONOS闪存中氮化物内电荷迁移抑制的研究
机译:用于SONOS闪存EEPROM的全面的陷阱电荷分析技术
机译:热氧化物中雪崩电荷注入与辐射诱导载流子俘获的过程变量依赖性及相互关系。