机译:使用高$ k $陷阱层的SONOS型闪存中电荷陷阱的空间分布
electron traps; field effect memory circuits; flash memories; hafnium compounds; high-k dielectric thin films; silicon compounds; zirconium compounds; HfO2; SONOS-type flash memory; Si3N4; ZrO2; charge traps spatial distr;
机译:使用高$ k $陷阱层在SONOS型闪存中进行CHEI编程的热电子捕获
机译:具有堆叠的高$ k $电荷陷阱层的电荷陷阱型闪存设备
机译:使用HfO {sub} 2作为通过Sol-Gel旋涂法沉积的电荷陷阱层的SONOS型闪存
机译:HFO
机译:高k电介质的电荷陷阱闪存。
机译:通过利用氧化铝的高介电常数和高带隙低功率和闪光阵列的低功率和闪光阵列的保留增强
机译:具有高κ电荷诱捕层的通道堆叠NAND闪存,可用于高可扩展性