机译:具有固有蚀刻停止和退火引起的源极和漏极区域的底栅铟镓锌氧化物薄膜晶体管
Department of Electronic and Computer Engineering, Hong Kong University of Science and Technology, Hong Kong;
Annealing; Atmosphere; Atmospheric measurements; Temperature dependence; Thin film transistors; Zinc oxide; Annealing; cover; defect; indium-gallium-zinc oxide (IGZO); indium-gallium???zinc oxide (IGZO); permeability; resistivity; thin-film transistor (TFT); thin-film transistor (TFT).;
机译:自对准底栅In-Ga-Zn-O薄膜晶体管,其源/漏区由氟化氮化硅的直接沉积形成
机译:反向沟道蚀刻非晶铟镓锌氧化物薄膜晶体管:源极/漏极金属蚀刻和最终钝化的影响
机译:顶栅铟镓锌氧化锌透明薄膜晶体管ITO源/漏电极的工艺开发
机译:自对准底栅InGaZnO薄膜晶体管,其源极和漏极区由选择性沉积氟化SiNx钝化形成
机译:铟镓锌氧化物和锌锡氧化物薄膜晶体管的制造工艺评估和负偏压照明应力研究。
机译:源/漏电极对氧化硅锡薄膜晶体管电性能的影响
机译:具有自对准源极/漏极区域的氧化锌薄膜晶体管掺杂注入硼以提高热稳定性