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机译:反向沟道蚀刻非晶铟镓锌氧化物薄膜晶体管:源极/漏极金属蚀刻和最终钝化的影响
Imec, Kapeldreef 75, 3001 Leuven, Belgium, ESAT, Katholieke Universiteit Leuven, Kasteelpark Arenberg 10, 3001 Leuven, Belgium;
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Imec, Kapeldreef 75, 3001 Leuven, Belgium;
Imec, Kapeldreef 75, 3001 Leuven, Belgium, ESAT, Katholieke Universiteit Leuven, Kasteelpark Arenberg 10, 3001 Leuven, Belgium;
Imec, Kapeldreef 75, 3001 Leuven, Belgium;
Holst Centre, High Tech Campus 31, 5656 AE Eindhoven, The Netherlands;
Imec, Kapeldreef 75, 3001 Leuven, Belgium, ESAT, Katholieke Universiteit Leuven, Kasteelpark Arenberg 10, 3001 Leuven, Belgium;
Imec, Kapeldreef 75, 3001 Leuven, Belgium, ESAT, Katholieke Universiteit Leuven, Kasteelpark Arenberg 10, 3001 Leuven, Belgium;
机译:钝化层沉积速率和疏水性对后沟道蚀刻无定形Ingazno薄膜晶体管的稳定性影响
机译:通过损坏的反向沟道的固化和钝化实现高性能低成本反向沟道刻蚀非晶态镓铟锌氧化物薄膜晶体管
机译:通过损坏的反向沟道的固化和钝化实现高性能低成本反向沟道刻蚀非晶态镓铟锌氧化物薄膜晶体管
机译:源/漏金属的溅射功率对使用湿法反向沟道刻蚀工艺制造的a-IGZO薄膜晶体管性能的影响
机译:铟镓锌氧化物和锌锡氧化物薄膜晶体管的制造工艺评估和负偏压照明应力研究。
机译:非晶铟 - 镓 - 氧化锌膜质量与薄膜晶体管性能的相关性研究
机译:非晶铟 - 镓 - 氧化锌膜质量与薄膜晶体管性能的相关性研究