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Process Options Impact on ESD Diode Performance in Bulk FinFET Technology

机译:批量FinFET技术中工艺选项对ESD二极管性能的影响

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摘要

Bulk FinFET is the main technology option for sub-20-nm CMOS nodes. However, newly introduced process options in advanced bulk FinFET technologies can result in significant deterioration of intrinsic electrostatic discharge (ESD) performance. In this paper, the impact on ESD performance induced by the process options beyond 20-nm nodes is explored on the ESD protection diodes.
机译:批量FinFET是20纳米以下CMOS节点的主要技术选择。但是,先进的批量FinFET技术中新引入的工艺选项可能会导致固有静电放电(ESD)性能显着下降。本文在ESD保护二极管上探讨了超过20 nm节点的工艺选项对ESD性能的影响。

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