机译:批量FinFET技术中工艺选项对ESD二极管性能的影响
imec, Leuven, Belgium;
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Logic gates; Electrostatic discharges; FinFETs; Current distribution; Anodes; CMOS integrated circuits; CMOS technology;
机译:先进的CMOS本体和FinFET技术中的ESD问题:处理,保护设备和电路策略
机译:研究工艺引起的性能差异以及10 nm技术节点Si体FinFET的优化
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机译:批量FinFET和GAA NW技术中ESD二极管的CDM时域接通瞬态
机译:自发热的3D分析及其对SOI和Bulk FinFET性能的影响。
机译:体硅衬底上的新型14nm扇贝形FinFET(S-FinFET)
机译:低面积,低功耗和32NM FINFET技术设计和性能分析,低功耗和最小延迟