CNT-FED中光刻工艺的研究

摘要

在碳纳米管场致发射显示器件结构中,需要采用光刻的方法制备各种不同的ITO图案和电极图案.本文着重介绍了ITO玻璃的表面处理和光刻过程.实验中采用在紫外曝光条件下,对光刻工艺中影响其刻蚀结果分辨率的各种因素做出了系统分析.这些因素主要包括了对于感光胶的选择,玻璃表面的清洁度,丝网印刷工艺的操作,紫外光曝光时间的控制,酸腐蚀浓度.通过优化实验工艺,得到满足精度要求的精细条纹,得出最佳的光刻条件.