机译:使用电阻回流工艺的32 nm节点随机接触孔阵列的临界尺寸控制
机译:70纳米节点的计量技术:通过放大和平均微观变化进行过程控制
机译:受保护单元去质子化效率对11nm极紫外光刻化学放大抗蚀剂工艺中线边缘粗糙度和随机缺陷产生的影响
机译:新型光刻工艺在70 nm及以上光刻工艺中的控制
机译:ITRS 70和50NM技术节点的包含高K栅极电介质和金属栅电极的器件的制造和评估。
机译:具有加密处理器的嵌入式传感器节点微控制器
机译:用于普遍存在环境控制系统的Arduino节点上的UDP数据包处理能力
机译:抗蚀技术与加工XII的进展。亚0.25微米光刻的193纳米硅烷化工艺的优化