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光刻工艺中预曝光技术机理分析与应用研究

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分析了预曝光技术运用机理,研究了光刻工艺中的预曝光技术.在连续型菲涅尔衍射透镜光刻工艺中,应用了预曝光技术,制作出了较为理想的连续型浮雕结构.

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来源
《第六届全国表面工程学术会议暨首届青年表面工程学术论坛》|2006年|514-517|共4页
会议地点兰州
作者
刘宏开; 罗崇泰; 王多书; 陈焘;
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作者单位

中国机械工程学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类光刻、掩膜;
关键词
光刻工艺; 预曝光; 曝光阈值; 菲涅尔衍射透镜; 连续型浮雕结构; 激光直写;
入库时间 2022-08-17 10:41:43

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