矩形平面磁控溅射装置若干参数的探讨

摘要

矩形平面磁控溅射装置中存在着诸如磁场，电场，气压，靶材，基片温度及速度，几何结构等参数间的相互影响，并且最终决定了沉积薄厝的性能，为了方便矩形平面磁控溅射装置的设计，就如下参数进行探讨；磁感应强度手设计与计算，电压，电流和气压的关系；基片温度及速度；膜厚均匀度。