The University of Texas at San Antonio.;
Ito; Rf magnetron sputtering; Tco materials;
机译:膜厚和溅射功率对无氧RF磁控溅射沉积ITO薄膜性能的影响
机译:O-2外加剂和溅射压力对RF反应磁控溅射沉积在PET基板上ITO薄膜性能的影响
机译:溅射参数对室温直流反应磁控溅射沉积AlN薄膜结构和残余应力的影响
机译:通过直流反应磁控溅射和高功率脉冲磁控溅射(Hipims),织地织地织地造成的ALN薄膜的生长沉积在Si(100)上沉积在Si(100)上
机译:沉积参数与射频磁控溅射沉积氧化锆薄膜性能之间的关系。
机译:氧浓度对超薄射频磁控溅射沉积铟锡氧化物薄膜作为光伏器件上电极的性能的影响
机译:磁控溅射沉积al掺杂ZnO薄膜:溅射参数对电学和光学性能的影响