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张召涛; 杨晓红; 马勇; 孙彩芹; 闫勇彦; 朱绍平;
重庆师范大学,物理与信息技术学院,重庆,400047;
直流磁控溅射; Ti-WO3薄膜; 退火; 气敏特性;
机译:退火对ZnO纳米颗粒薄膜微观结构的影响及VOC气敏特性
机译:退火ZnO薄膜的结构和气敏特性
机译:退火温度对快速热退火处理的Ta / PrFeB / Ta薄膜的结构和磁性的影响
机译:金和镍共助剂对SnO2薄膜气敏特性对氢气和二氧化氮的气敏特性的影响
机译:通过热退火和溶剂退火处理嵌段共聚物在块状和薄膜中的自组装。
机译:强脉冲光(IPL)快速退火和反向通道钝化对溶液处理的In-Ga-Zn-O薄膜晶体管阵列的影响
机译:退火对金刚石薄膜钛电触头微观结构的影响。
机译:用于薄膜半导体结构的退火,用于薄膜半导体的退火方法,薄膜半导体器件,薄膜半导体器件制造方法和显示器件。
机译:用于退火的薄膜半导体结构,用于薄膜半导体的退火方法,薄膜半导体器件,薄膜半导体器件的制造方法以及显示
机译:薄膜半导体器件,退火方法,其制造方法,以及用于退火的显示装置和薄膜半导体结构体
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