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氧化退火处理装置和使用氧化退火处理的薄膜晶体管的制造方法

摘要

在氧化退火处理装置(1)的密闭容器状的装置主体(3)的内部配置有远红外线面状加热器(6),连接对装置主体(3)内供给包含水蒸气和氧气的氧补充气体的氧补充气体供给管(8)和将装置主体(3)内的气体排出的排气管(11),使氧补充气体供给管(8)与对基板(50)的氧缺陷部位喷射包含水蒸气和氧气的氧补充气体的喷嘴喷射口(16)连通。由此,即使是大型基板也能够在防止产生漏泄电流的同时以高吞吐量和低成本进行氧化退火处理。

著录项

  • 公开/公告号CN103201828B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-06-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 夏普株式会社;

    申请/专利号CN201180053396.0

  • 发明设计人 太田纯史;桥本真人;

    申请日2011-10-28

  • 分类号H01L21/324(20060101);H01L21/336(20060101);H01L29/786(20060101);

  • 代理机构11322 北京尚诚知识产权代理有限公司;

  • 代理人龙淳

  • 地址 日本大阪府

  • 入库时间 2022-08-23 09:42:37

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-06-29

    授权

    授权

  • 2013-11-13

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/324 申请日:20111028

    实质审查的生效

  • 2013-07-10

    公开

    公开

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