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孙倩;
南京邮电大学电子科学与工程学院,南京210003;
石墨烯隧穿场效应管; 异质氧化层; 反相器;
机译:通过反相器性能评估的轴向Ge-Si异质结全栅纳米线隧穿CMOS-FET器件设计
机译:在亚阈值范围内具有减小的带间隧穿效应的异质栅介电双栅无结晶体管(HGJLT)
机译:异质栅介电和隧穿增强n层隧穿场效应晶体管的严格设计与分析
机译:Ge / Si异质结垂直栅场效应管在有和无栅-漏极重叠结构的情况下的性能比较及其在数字逆变器中的应用
机译:狄拉克电子在石墨烯异质结中的隧穿实验。
机译:异质栅介电隧穿场效应晶体管(HG TFET)的演示
机译:高流动性少数层石墨烯场效应晶体管制造 外延铁电栅氧化层(补充信息)
机译:激光加工多层基板上的垂直单栅CmOs反相器。
机译:MOS浮栅存储单元,包含与漏极接触并在场氧化层边缘下方延伸的隧穿扩散区
机译:使用场效应管的信号传输集成电路-具有三个反相器级,场效应管与电压源和电源之间的负载串联
机译:具有石墨烯-绝缘体-半导体结构的隧穿二极管,隧穿晶体管,隧穿光电二极管和隧穿光电晶体管
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