英飞凌加入157纳米光刻技术阵营

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正在英特尔宣布不再支持157纳米技术与设备开发后不久,英飞凌科技(Infineon Technologies AG)与科莱恩公司(Clariant)却反其道而行之,日前宣布共同签署了一项协议,合作开发157纳米微影技术用光阻材料,主要目的是加速这项技术早日进入量产。这项计划所要开发的光阻材料,将会大大帮助英飞凌生产55纳米线宽DRAM半导

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来源
《半导体信息》 |2003年第5期|P.29-29|共1页
作者
章从福;
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作者单位

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原文格式 PDF
正文语种 CHI
中图分类电子工业;
关键词
英飞凌; 光刻技术; 设备开发; 光阻; 科莱恩; 半导体技术; 线宽; 半导体芯片; 工具设备; 真空紫外光;

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