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基于多尺度多光子光刻技术的微纳米三维结构制备系统和方法

摘要

本发明公开了一种基于多尺度多光子光刻技术的微纳米三维结构制备系统和方法,属于光学微纳米结构制备技术领域。系统包括支撑结构、基板、光敏聚合物容器池、物镜、第一光学结构、第二光学结构、光学成像装置和控制器;所述的控制器用于控制第一光学结构、第二光学结构的启闭及工作参数,光学成像装置用于获取物镜的成像信息;所述的第一光学结构发射第一波长的光,通过物镜聚焦在光敏聚合物中,引发单光子聚合;所述的第二光学结构发射第二波长的光,通过物镜聚焦在光敏聚合物中,引发多光子聚合。对待打印的微纳米三维结构的打印数据进行高、低分辨率分割,逐层打印,在保证打印精度的基础上提高了打印速度。

著录项

  • 公开/公告号CN113050390A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-06-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海大学;

    申请/专利号CN202110368181.3

  • 申请日2021-04-06

  • 分类号G03F7/20(20060101);

  • 代理机构33200 杭州求是专利事务所有限公司;

  • 代理人郑海峰

  • 地址 200444 上海市宝山区上大路99号

  • 入库时间 2023-06-19 11:40:48

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-08-23

    发明专利申请公布后的撤回 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2021103681813 申请公布日:20210629

    发明专利申请公布后的撤回

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