首页> 外国专利> MICROTIP ARRAYS FOR NANO LITHOGRAPHY, MANUFACTURING METHOD OF THE SAME AND NANO LITHOGRAPHY METHOD USING THE SAME

MICROTIP ARRAYS FOR NANO LITHOGRAPHY, MANUFACTURING METHOD OF THE SAME AND NANO LITHOGRAPHY METHOD USING THE SAME

机译:纳米光刻技术的微缩阵列,相同光刻技术的制造方法和使用相同光刻算法的纳米光刻技术

摘要

The present invention relates to a nanoplasmonic microtip array for nanolithography, a method of manufacturing the same, and a nanolithography method using the same. More particularly, the present invention relates to a microtip array for nanolithography which can fabricate a nanostructure of diffraction limit or less by manufacturing an large-scaled elastomer or polymer microtip array and forming a metal nanostructure on the surface of the array, a method of manufacturing the same, and a nanolithography method using the same. In a microtip array for nanolithography, the micro tip array provides a micro tip array for nanolithography which has a surface where metal nanostructures are formed.
机译:技术领域本发明涉及用于纳米光刻的纳米等离子体微尖端阵列,其制造方法以及使用其的纳米光刻方法。更具体地,本发明涉及用于纳米光刻的微尖端阵列,其可以通过制造大规模的弹性体或聚合物微尖端阵列并在该阵列的表面上形成金属纳米结构来制造衍射极限以下的纳米结构。相同,并且使用相同的纳米光刻方法。在用于纳米光刻的微尖端阵列中,微尖端阵列提供了用于纳米光刻的微尖端阵列,该微尖端阵列具有形成有金属纳米结构的表面。

著录项

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号