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Optical Microlithography XVIII pt.3
Optical Microlithography XVIII pt.3
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1.
What makes a coherence curve change?
机译:
是什么使相干曲线发生变化?
作者:
Stephen P. Renwick
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
coherence;
partial coherence;
lens;
illuminator;
annular;
iso-nested bias;
aberration;
NA;
pitch;
2.
The Impact of Illumination on Feature Fidelity for CPL Mask Technology
机译:
CPL掩模技术的照明对特征保真度的影响
作者:
Jan Pieter Kuijten
;
Arjan Verhappen
;
Will Conley
;
Stefan van de Goor
;
Lloyd Litt
;
Wei Wu
;
Kevin Lucas
;
Bernie Roman
;
Bryan Kasprowicz
;
Chris Progler
;
Robert Socha
;
Doug van den Broeke
;
Kurt Wampler
;
Tom Laidig
;
Stephen Hsu
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
3.
Super Diffraction Lithography (SDL): Fine Random Line Pattern Formation by Single-Exposure with Binary Mask
机译:
超衍射平版印刷术(SDL):通过二进制掩模单次曝光形成精细的随机线条图案
作者:
S. Nakao
;
J. Abe
;
A. Nakae
;
A. Imai
;
K. Narimatsu
;
K. Suko
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
RET;
single layer mask;
single exposure;
modified illumination;
attenuating non-phase-shift;
4.
Sub 90nm DRAM Patterning by Using Modified Chromeless PSM at KrF lithography era
机译:
在KrF光刻时代通过使用改良的无铬PSM进行90nm以下的DRAM图案化
作者:
Young-Sik Kim
;
Yoon-Suk Hyun
;
Keun-Kyu Kong
;
Hyeongsoo Kim
;
Bong-Ho Choi
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
KrF;
ArF;
PSM (phase shift mask);
HTPSM (halftone PSM);
chromeless HTPSM;
MEF (mask error factor);
5.
Some aspects on mechanisms responsible for contamination of optical components in DUV lithographic exposure tools
机译:
DUV光刻曝光工具中造成光学组件污染的机制的某些方面
作者:
Hans Fosshaug
;
Mats Ekberg
;
Gunnar Kylberg
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
laser pattern generator;
contamination;
lens;
modeling;
physisorption;
chemisorption;
mechanisms;
6.
Prediction of the lens lifetime by monitoring lens degradation on laser-based microlithography tools
机译:
通过在基于激光的微光刻工具上监视透镜退化来预测透镜寿命
作者:
Albert Michaeli
;
Eylon Rosner
;
Yehuda Root
;
Hagay Duenias
;
Shai Rubin
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
lens degradation monitoring;
lifetime prediction;
laser damage;
photo-induced chemical adsorption;
two-photon absorption;
pulse count method;
energy based method;
7.
Pupil Optimization of Incoherent Imaging Systems for Improved CD Linearity
机译:
非相干成像系统的瞳孔优化,以改善CD线性
作者:
Igor Ivonin
;
Torbjoern Sstroem
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
CD linearity;
optimal nonparametric pupil apodization;
incoherent imaging;
8.
Proximity Matching for 193 nm Scanner Using Scatterometry
机译:
使用散射法对193 nm扫描仪进行接近匹配
作者:
WenZhan Zhou
;
Jin Yu
;
James Lo
;
Johnson Liu
;
Henry Tjhin
;
Thaddeus G. Dziura
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
OPC;
proximity matching;
scatterometery;
partial coherence;
acid diffusion;
defocus;
9.
Photoresist Modulation Curves
机译:
光刻胶调制曲线
作者:
Anatoly Bourov
;
Yongfa Fan
;
Frank C. Cropanese
;
Bruce W. Smith
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
photoresist;
modulation curve;
system resolution;
immersion;
interference;
lithography;
10.
Mid-Range Flare Measurement and Modeling
机译:
中程火炬测量和建模
作者:
Kazuya Sato
;
Kenji Chiba
;
Kei Hayasaki
;
Kenji Kawano
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
mid-range flare;
mid-range pattern density;
CD uniformity;
PSF;
flare sensitivity;
effective transmission;
11.
'Mask Enhancer' Technology for 45-nm Node Contact Hole Fabrication
机译:
用于45 nm节点接触孔制造的“面罩增强器”技术
作者:
Takashi Yuito
;
Vincent Wiaux
;
Lieve Van Look
;
Geert Venberghe
;
Shigeo Irie
;
Takahiro Matsuo
;
Akio Misaka
;
Hisashi Watanabe
;
Masaru Sasago
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
mask enhancer;
OL-PSM;
ArF lithography;
phase-shifting mask;
resolution enhancement technology;
mask error enhancement factor;
immersion lithography;
mask topography effect;
12.
Long-term Zernike Lens Aberration Measurement
机译:
长期Zernike镜头像差测量
作者:
Patrick Lomtscher
;
Gerhard Kunkel
;
Bill Roberts
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
focus measurement;
two beam interferometer;
blazed phase grating;
lens aberration;
13.
Kinetics of Laser Induced Changes aracteristic Optical Properties in Lit with 193nm Excimer Laser Exposure
机译:
激光在193nm受激准分子激光照射下引起的改变物理光学性质的动力学
作者:
Ute Natura
;
Rolf Martin
;
Gordon von der Goenna
;
Michael Kahlke
;
Gabriele Fasold
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
defect generation;
fused silica;
rapid damage process;
pre-irradiation effect;
14.
Imaging Study of Positive and Negative Tone Weak Phase-shifted 65 nm Node Contacts
机译:
正负音弱相移65 nm节点触点的成像研究
作者:
James V. Beach
;
John S. Petersen
;
Robert T. Greenway
;
Mark John Maslow
;
Susan S. MacDonald
;
Lee H. Margolis
;
Gregory P. Hughes
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
15.
Implementation of Contact Hole Patterning Performance with KrF Resist Flow Process for 80nm DRAM Application
机译:
KrF抗蚀剂流工艺在80nm DRAM应用中实现接触孔构图性能
作者:
Hyoung-ryeun Kim
;
DongHeok Park
;
HyeongSoo Kim
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
80nm DRAM;
contact holes;
KrF resist;
resist flow process;
16.
Hot spot free diffractive DUV-homogenizer for high NA-illumination
机译:
无热点衍射DUV均质器,可提供高NA照明
作者:
Matthias Cumme
;
Mirko Riethmueller
;
Dirk Mademann
;
Manfred Schrenk
;
Peter Weissbrodt
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
resolution enhancement;
diffractive optics;
homogenizer;
17.
Hardness, Elastic Modulus, and Fracture Toughness Bulk Properties in Corning Calcium Fluoride
机译:
康宁氟化钙的硬度,弹性模量和断裂韧性的整体性质
作者:
Julie L. Ladison
;
James J. Price
;
John D. Helfinstine
;
William R. Rosch
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
code 9575;
calcium fluoride;
CaF_2;
knoop hardness;
vickers hardness;
elastic modulus;
nanoindentation;
microindentation;
young's modulus;
18.
Examination of the prevalence and abundance of noncondensable, nonreactive optical surface contaminants in the scanner environment
机译:
检查扫描仪环境中不凝性,非反应性光学表面污染物的普遍性和丰度
作者:
F. Belanger
;
P. Cate A. Grayfer
;
R. Petersen
;
D. Ruede
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
19.
Feasibility study of 6 kHz ArF excimer laser for 193 nm immersion lithography
机译:
6 kHz ArF准分子激光器用于193 nm浸没式光刻的可行性研究
作者:
Tsukasa Hori
;
Takayuki Yabu
;
Takanobu Ishihara
;
Takayuki Watanabe
;
Osamu Wakabayashi
;
Akira Sumitani
;
Kouji Kakizaki
;
Hakaru Mizoguchi
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
ArF excimer laser;
6 kHz operation;
immersion lithography;
acoustic wave;
20.
Influence of illumination tilt on imaging
机译:
照明倾斜对成像的影响
作者:
Mark C. Phillips
;
Steve D. Slonaker
;
Chris Treadway
;
Greg Darby
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
illumination tilt;
imaging;
coma;
telecentricity;
source shift;
21.
In-line monitoring of acid and base contaminants at low ppt-levels for 193nm lithography
机译:
在线监测低ppt级的酸和碱污染物,用于193nm光刻
作者:
Roel Gronheid
;
Rida Al-Horr
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
airborne contamination;
process control;
acids;
bases;
purge gas analysis;
ion chromatography;
22.
A Novel Assist Feature for Contact Holes to Overcome Problematic Pitches
机译:
接触孔的新辅助功能可解决有问题的螺距
作者:
Mars Yang
;
Francis Lin
;
Elvis Yang
;
T.H. Yang
;
K.C. Chen
;
Joseph Ku
;
C.Y. Lu
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
contact hole;
assist feature;
through pitch;
problematic pitches;
23.
Applications of CPL™ Mask Technology for sub-65nm Gate Imaging
机译:
CPL™掩模技术在65nm以下栅极成像中的应用
作者:
Lloyd C. Litt
;
Will Conley
;
Wei Wu
;
Richie Peters
;
Colita Parker
;
Jonathan Cobb
;
Bryan S. Kasprowicz
;
Doug van den Broeke
;
J.C. Park
;
Ramkumar Karur-Shanmugam
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
lithography;
chromeless;
phase;
resolution enhancement techniques;
RET;
24.
Characterization of Imaging Performance : Considering Both Illumination Intensity Profile and Lens Aberration
机译:
成像性能的表征:同时考虑照明强度分布和透镜像差
作者:
Takeaki Ebihara
;
Hideyuki Saito
;
Takafumi Miyaharu
;
Shuichi Okada
;
Yoshihiro Shiode
;
Takahisa Shiozawa
;
Toshiyuki Yoshihara
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
illumination intensity profile;
lens aberration;
simulation;
25.
Automated aberration extraction using phase wheel targets
机译:
使用相轮目标自动提取像差
作者:
Lena Zavyalova
;
Anatoly Bourov
;
Bruce W. Smith
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
aberrations;
phase wheel;
lithography;
26.
Assessment of 5-pole Illumination for 65nm-node Contact Holes
机译:
评估65nm节点接触孔的5极照明
作者:
Francois Weisbuch
;
Scott Warrick
;
Will Conley
;
Jerome.Depre
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
aerial image;
contact;
RET;
multiple exposure;
process windows;
simulation;
windmill;
illumination;
27.
Current status of 157-nm lithography using a full-field scanner
机译:
使用全场扫描仪的157 nm光刻技术的当前状态
作者:
Toshiyuki Ishimaru
;
Seiji Matsuura
;
Miyoshi Seki
;
Kiyoshi Fujii
;
Ryo Koizumi
;
Yuji Hakataya
;
Akihiko Moriya
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
157-nm dry lithography;
full field scanner;
FPA-5800 FS1;
28.
Correction of the phase retardation caused by intrinsic birefringence in deep UV lithography
机译:
深紫外光刻中固有双折射引起的相位延迟的校正
作者:
Alexer Serebriakov
;
Florian Bociort
;
Joseph Braat
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
lithography;
birefringence;
spatial dispersion;
phase retardation;
optical system design;
29.
Development and evaluation of a F_2 laser for immersion interference lithography at 157nm
机译:
用于157nm浸没式干涉光刻的F_2激光器的开发和评估
作者:
Yasuo Itakura
;
Youichi Kawasa
;
Osamu Wakabayashi
;
Masato Moriya
;
Shinji Nagai
;
Akira Sumitani
;
Takuya Hagiwara
;
Toshiyuki Ishimaru
;
Shou Tsuji
;
Kiyoshi Fujii
;
Wataru Wakamiya
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
interferometer;
F_2 laser;
line-select;
polarization;
coherence;
immersion;
resist;
30.
Design restrictions for patterning with Off-axis Illumination
机译:
使用离轴照明进行图案化的设计限制
作者:
Itty Matthew
;
Cyrus E. Tabery
;
Todd Lukanc
;
Marina Plat
;
Makoto Takahashi
;
Amada Wilkison
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
dipole illumination;
design restriction;
OPC;
orientation;
CD control;
DOF;
ML 5754-174;
31.
Larger Depth of Focus for Increased Yield
机译:
更大的焦点深度可提高产量
作者:
W. Thomas Cathey
;
Gregory Johnson
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
lithography;
depth of focus;
vias;
DOF;
contact holes;
EUV;
immersion;
32.
Improvement of Homogeneity in Large Optics Made of Corning HPFS~reg; Fused Silica
机译:
康宁HPFS〜®熔融石英制成的大型光学器件的均质性提高
作者:
Julie L. Ladison
;
John E. Maxon
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
homogeneity;
large optics;
interferometer;
birefringence;
HPFS~reg;
fused silica;
code 7980;
HINDS EXICOR™ZYGO interferometer;
33.
Improvement of the lifetime of the optical coatings under high power laser irradiations
机译:
改善大功率激光照射下光学涂层的寿命
作者:
Ryuji Biro
;
Tetsuzo Ito
;
Seiji Kuwabara
;
Hirotaka Fukushima
;
Hideo Akiba
;
Keisui Banno
;
Yasuyuki Suzuki
;
Minoru Otani
;
Kazuho Sone
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
coating;
lithography;
lifetime;
durability;
laser;
F_2;
Arf;
34.
Influence of Illumination Non-Uniformity on Pattern Fidelity
机译:
照明不均匀度对图案保真度的影响
作者:
Michael A. Creighton
会议名称:
《》
|
2005年
关键词:
illumination;
annular;
coherence;
pitch;
light source;
35.
Development of Fluoropolymers for Pellicle in 157nm Lithography
机译:
157nm光刻中用于胶束的含氟聚合物的开发
作者:
Shinji Okada
;
Hiromasa Yamamoto
;
Ikuo Matsukura
;
Naoko Shirota
;
Yuichirou Ishibashi
;
Hironao Sasaki
;
Iwao Higashikawa
;
Wataru Wakamiya
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
157nm lithography;
soft pellicle;
fluoropolymers;
degradation;
laser durability;
36.
Double Patterning scheme for sub-0.25 k1 single damascene structures at NA=0.75, λ=193nm
机译:
在NA = 0.75,λ= 193nm下亚0.25 k1单镶嵌结构的双图案方案
作者:
M. Maenhoudt
;
J. Versluijs
;
H. Struyf
;
J. Van Olmen
;
M. Van Hove
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
37.
A novel mask-based approach to improve low-k1 corner and angle definition in alternating-aperture phase-shift mask structures
机译:
一种新颖的基于掩模的方法来改善交替孔径相移掩模结构中的低k1角和角度清晰度
作者:
Kent H. Nakagawa
;
David Siefers
;
Susan MacDonald
;
Peter D. Buck
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
alternating PSM;
phase shift mask;
magnetic read head;
RET;
simulation;
38.
6 kHz MOPA light source for 193 nm immersion lithography
机译:
6 kHz MOPA光源,用于193 nm浸没式光刻
作者:
Walter D. Gillespie
;
Toshihiko Ishihara
;
William N. Partlo
;
George X. Ferguson
;
Michael R. Simon
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
MOPA;
ArF;
excimer;
high repetition rate;
39.
Assessment of Complementary Double Dipole Lithography for 45 nm and 32 nm Technologies
机译:
互补双偶极光刻技术在45 nm和32 nm技术上的评估
作者:
Sergei V. Postnikov
;
Emilien Robert
;
Philippe Thony
;
Kyle Patterson
;
Scott Warrick
;
Daniel Henry
;
res Torres
;
Olivier Toublan
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
double dipole lithography;
low K1 imaging;
dipole illumination;
lithography process window;
critical dimension control;
monte-carlo lithography simulation;
40.
ARE PATTERN AND PROBE ABERRATION MONITORS READY FOR PRIME TIME?
机译:
图案和探头像差监控器是否已准备好在黄金时段使用?
作者:
Garth C. Robins
;
rew R. Neureuther
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
aberration;
image;
phase-shifting mask;
interference;
aberration monitor;
zernike aberrations;
printable artifact;
high-NA;
resist image;
focus monitor;
intensity imbalance;
illumination;
AIMS;
41.
Considering the flare by introducing the random aberration and non-conserved aberration
机译:
通过引入随机像差和非保守像差来考虑耀斑
作者:
Masato Shibuya
;
Nobuaki Watanabe
;
Hiromi Ezaki
;
Suezou Nakadate
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
flare;
local flare;
non-conserved aberration;
random aberration;
wavefront aberration;
42.
Development of Aerial Image Based Aberration Measurement Technique
机译:
基于航空像差测量技术的发展
作者:
Tsuneyuki Hagiwara
;
Naoto Kondo
;
Irihama Hiroshi
;
Kosuke Suzuki
;
Nobutaka Magome
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
lithography;
aberration;
aerial image;
Zernike;
43.
ILSim - A compact simulation tool for interferometric lithography
机译:
ILSim-一款用于干涉光刻的紧凑型仿真工具
作者:
Yongfa Fan
;
Anatoly Bourov
;
Lena Zavyalova
;
Jianming Zhou
;
rew Estroff
;
Neal Lafferty
;
Bruce W. Smith
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
interferometric lithography;
high-NA;
modeling;
full vector imaging theory;
44.
Tunable Transmission phase mask options for 65/45nm node gate and contact processing
机译:
用于65 / 45nm节点栅极和接触处理的可调传输相位掩模选项
作者:
Bryan S. Kasprowicz
;
Will Conley
;
Young-mog Ham
;
Michael J. Cangemi
;
Nicolo Morgana
;
Marc J. Cangemi
;
R Cottle
;
Christopher J. Progler
;
Wei Wu
;
Lloyd C. Litt
;
Jonathan Cobb
;
Bernie Roman
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
mask;
transmission;
EAPSM;
simulation;
materials;
model;
45.
The evaluation of aberration effects according to pattern shape and duty ratio
机译:
根据图案形状和占空比评估像差效果
作者:
Ji-Eun Lee
;
Seung-Wook Park
;
Chang-Ho Lee
;
Hyun-Wook Oh
;
So-Yoon Bae
;
Hye-Keun Oh
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
Zernike aberration;
simulation;
lithography;
duty ratio;
46.
The Effect of Polarized 193nm Irradiation on Photomask Haze Formation
机译:
193nm偏振辐射对光掩模雾度形成的影响
作者:
Y.D. Kim
;
H.B.Kang
;
Yuan Zhang
;
Chuong Tran
;
Nigel Farrar
;
Jennifer Qin
;
Barry Rockwell
;
H. J. Cho
;
R Cottle
;
David Chan
;
Pat Martin
;
S.S.Choi
;
Chris Progler
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
193nm laser;
haze;
mask clean;
47.
Understanding of the depth of focus evolution from an analysis of the iso-focal point
机译:
通过对等焦点的分析了解焦点演变的深度
作者:
S.Manakli
;
Y.Trouiller
;
P.Schiavone
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
iso-focal point;
ArF lithography;
depth of focus;
RET;
sub resolution assist feature;
CODE;
48.
The Problem of Optimal Placement of Sub-Resolution Assist Features (SRAF)
机译:
次解析辅助功能(SRAF)的最佳放置问题
作者:
Maharaj Mukherjee
;
Scott Mansfield
;
Lars Liebmann
;
Alexey Lvov
;
Evanthia Papadopoulou
;
Mark Lavin
;
Zengqin Zhao
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
resolution enhancement techniques (RET);
sub resolution assist features (SRAF);
optical proximity correction (OPC);
design rule checking (DRC);
mask rule checking (MRC);
voronoi diagram;
geometric optimization;
lithographic process;
process window;
49.
The Analysis of the Criteria of Phase Error by Evaluating the Influence of Lens Aberration on the Lithographic Performance
机译:
通过评估透镜像差对光刻性能的影响来分析相位误差标准
作者:
Chang-Young Jeong
;
Jun-Kyu Ann
;
Ki-Yeop Park
;
Jae Sung Choi
;
Jeong Gun Lee
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
aberration;
PSM;
phase error;
mask topography;
50.
Synthetic defocus for interferometric lithography
机译:
用于干涉光刻的合成散焦
作者:
Frank C. Cropanese
;
Anatoly Bourov
;
Yongfa Fan
;
Jianming Zhou
;
Lena Zavyalova
;
Bruce W. Smith
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
interference;
interferometric lithography;
synthesis;
single beam attenuation;
defocus;
contrast;
51.
Simple micro-scale selective patterning on a single nanowire by using an optical microscope
机译:
使用光学显微镜在单个纳米线上进行简单的微型选择性构图
作者:
Dong Jin Oh
;
Boone Won
;
Kang Hyun Kim
;
Gyu Tae Kim
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
optical microscope;
photo lithography;
nanowire;
selective patterning;
52.
Quantum image-forming theory beyond diffraction limit
机译:
超越衍射极限的量子成像理论
作者:
Naoki Fukutake
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
entangled-photon pairs;
spontaneous parametric down-conversion;
53.
Requirement of in-field illumination control for low k1 imaging below 0.3
机译:
低于0.3的低k1成像的现场照明控制要求
作者:
Chan Hwang
;
Jangho Shin
;
Suk-Joo Lee
;
Sang-Gyun Woo
;
Han-Ku Cho
;
Joo-Tae Moon
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
pupil-fill;
photolithography simulation;
illumination system control;
low k1 process;
54.
Post Printing Optimization with Chrome-less Phase Shifting Mask
机译:
使用无铬相移掩模进行后期印刷优化
作者:
Yung-Tin Chen
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
post printing;
KrF lithography;
3-D integrated circuit;
chrome-less phase shifting mask;
off axis illumination;
55.
Properties of Ultra-large CaF_2 crystals for the high NA optics
机译:
高NA光学用超大型CaF_2晶体的性能
作者:
Y. Hatanaka
;
H. Yanagi
;
T. Nawata
;
Y. Inui
;
T. Mabuchi
;
K. Yasumura
;
E. Nishijima
;
T. Fukuda
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
CaF_2;
czochralski method;
single crystal;
large diameter;
56.
Optimization of Multi-pole Aperture for Via Patterning of 90 nm Logic Devices by KrF Lithography
机译:
KrF光刻技术优化90 nm逻辑器件通孔图案的多极孔径
作者:
Shu Ping Fang
;
Hsiang Yang
;
Hsien-an Chang
;
Paul Chiang
;
Benjamin Sue-Min Lin
;
Kuei-Chun Hung
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
KrF lithography;
multi-pole aperture;
90 nm;
proximity;
MEEF;
DOf;
57.
Novel illumination apertures for resolution-enhanced technology and through-pitch critical dimension control
机译:
用于分辨率增强技术和通距关键尺寸控制的新型照明光圈
作者:
I-Hsiung Huang
;
Ling Chieh Lin
;
C. L. Lin
会议名称:
《Optical Microlithography XVIII pt.3》
|
2005年
关键词:
illumination aperture;
through-pitch;
resolution-enhanced technology;
design constraint;
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