Advanced Micro Devices, 1 AMD Place, Mailstop 78, Sunnyvale CA 94088;
dipole illumination; design restriction; OPC; orientation; CD control; DOF; ML 5754-174;
机译:特定图案偏轴照明的光栅掩模制造公差分析
机译:离轴照明对100 nm宽度图案可印刷性的角度依赖性,用于极端紫外光刻:Ru / Mo / Si反射器系统
机译:离轴照明的入射角对极紫外光刻中图案可印刷性的影响
机译:特定图案的掩模光栅设计,可提供离轴照明效果
机译:使用图案照明有效地获取反射场。
机译:考虑照明和图像中颜色信息的取放视觉系统的自动视场照明和识别算法设计
机译:用于轴外轴和非剖面自由形式照明镜头设计的射线映射方法