Optics Research Group, Delft Univ. of Technology, Lorentzweg 1, 2628 CJ Delft,The Netherls;
lithography; birefringence; spatial dispersion; phase retardation; optical system design;
机译:深紫外光刻中空间色散引起的双折射:理论和高级补偿策略
机译:深紫外光刻技术中空间色散引起的双折射:理论和高级补偿策略
机译:深硅X-射线光刻技术,采用深金UV光刻技术和电铸技术制造的硅金面膜
机译:内部双折射在深紫色光刻中的影响
机译:深紫外光刻的波前工程问题。
机译:庞加莱球上斯托克斯矢量的轨迹揭示的散射和双折射在相位延迟中的作用
机译:基于深紫外准分子激光的光刻技术的新相移技术