电子束曝光机工件台X向静压气浮导轨的研制

摘要

为实现DB—5型电子束曝光机工件台高速度及高精度的要求,研制了x向闭式静压气浮导轨,该系统由双导轨及单导轨两部分组成。本文主要介绍静压气浮导轨系统的设计计算、性能试验。