曝光机
曝光机的相关文献在1989年到2023年内共计1682篇,主要集中在无线电电子学、电信技术、自动化技术、计算机技术、轻工业、手工业
等领域,其中期刊论文89篇、会议论文4篇、专利文献2489360篇;相关期刊39种,包括民营科技、军民两用技术与产品、大舞台等;
相关会议4种,包括2014春季国际PCB技术/信息论坛、第三届全国青年印制电路学术年会、第十一届全国电子束、离子束、光子束学术年会等;曝光机的相关文献由1704位作者贡献,包括张方德、谢桂平、张雷等。
曝光机—发文量
专利文献>
论文:2489360篇
占比:100.00%
总计:2489453篇
曝光机
-研究学者
- 张方德
- 谢桂平
- 张雷
- 张鸿明
- 王华
- 刘长征
- 袁强
- 陈振才
- 马迪
- 吴景舟
- 汪孝军
- 陈志特
- 陈国军
- 蔡志国
- 孙雷
- 庞超群
- 邱田生
- 陶薇
- 王玉璋
- 李伟成
- 冯京
- 佘瑞峰
- 李松凌
- 袁广才
- 刘鹏
- 廖平强
- 李炬
- 栾兴龙
- 梅文辉
- 王志冲
- 王群
- 不公告发明人
- 尹韶云
- 李付强
- 李诚
- 董学
- 贺兴志
- 霍锦充
- 高剑
- 刘栋
- 吴越
- 周超
- 张婧姣
- 张洪波
- 佘振宇
- 余燕青
- 冯梦飞
- 唐琦
- 孙行
- 张力舟
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李香华;
许培战;
胡荫敏
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摘要:
PCB行业传统普通曝光机使用汞灯光源发射出紫外线光(UV),这UV汞灯为热光源,缺点温度高、耗电量大并且产生臭氧造成环境危害;近几年流行的LED为冷光源,相对UV汞灯发热量低、耗电量少且不产生有害物质。因此PCB普通曝光机新推出的设备逐步使用LED光源取代汞灯,并且原有汞光源传统曝光机选择升级改造为LED光源。文章就曝光机不同类型LED光源与传统汞灯优劣点进行技术探讨。
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吴祥晟1;
王雷1;
达悦1;
李远林1;
顾陈颖1;
王强1
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摘要:
光刻设备(曝光机)因其单价最贵,精度最高,在TFTLCD工艺中起着举足轻重的作用。其原理是通过照射特定紫外光源,透过掩膜版并在涂有光刻胶的玻璃基板上光刻形成特定的TFT图案。其主要采用高压水银灯作为紫外光源(图1)。曝光灯为一次性消耗品,更换周期短,价格贵,成本花费十分高昂。因此如何能够降低高压水银灯的成本成了最关键的课题。
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董猛;
李香华;
孙玉凯;
周志勇;
付红玉
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摘要:
在HDI行业中,消费类产品多以大批量为主,生产厂家规模大,在设备选型方面可以充分选择;而工控类HDI,批量小,交期要求严格,主要为内资企业在生产.在图形曝光工序,由于一次投入资金限制,行业内企业很大比例在使用传统曝光机进行生产.文章根据LDI生产成本以及采购设备成本与传统曝光机的成本对比,分析LDI在生产工控类产品中的成本优势.
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肖林峰
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摘要:
光罩清洗的流程以及优化,需要在实际生产运用中来完善,要保证在不影响清洗能力的情况下来优化各个工艺参数,在各种工艺清洗时的时间和MASK Stage的转速来缩短清洗光罩的时间,而这个参数需要在不断地实验中完善.该文针对目前液晶面板在正常生产的过程中光罩(MASK)日常清洗的流程及工艺,介绍了目前光罩清洗机中使用的几种主要的清洗工艺,清洗光罩时需根据不同原因来选择所需要的工艺来清洗,以及对清洗工艺的优化.
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周畅;
高孝裕;
李喜峰
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摘要:
高分辨率TFT曝光技术随着第三代显示技术--AMOLED显示技术和高PPI显示技术的发展,已经成为平板显示的最关键技术之一,实现高分辨曝光的TFT曝光机也是ARRAY段最核心设备.介绍了可用于G2.5代TFT玻璃基板制造的高分辨率扫描投影曝光机SSB225/10,并以实际测试数据及制造成功的AMOLED显示器件表明该设备能够很好地满足LTPS-TFT工艺要求.
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Liu Zhe;
刘哲;
Wen Yujuan;
温玉娟;
Huang Bocai;
黄博才;
Huang Daoping;
黄道平
- 《2018粤港澳大湾区智能检测与协同创新青年论坛》
| 2018年
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摘要:
针对目前国内曝光机控制系统存在曝光速度慢,精度不高,稳定性弱等问题,研究曝光机多轴控制系统,结合机器视觉技术、多轴运动控制技术、嵌入式软件技术等,通过四路CCD准确地检测出PCB和曝光菲林的贴合精度,同时设计多通道运动控制系统和光纤环路通讯主从站,实现对多达17个伺服步进轴的通讯和控制;采用Linux系统和RTAI系统内核相结合,提高控制系统的实时性.测试结果表明,系统工作稳定,能实现高速高精度的PCB曝光控制.
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MIN Xiu-hong;
闵秀红
- 《2014春季国际PCB技术/信息论坛》
| 2014年
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摘要:
印制电路板生产设备紫外线曝光机的光源系统,其能耗大、使用维护成本高、含汞等缺陷,在倡导节能环保的当今,业界一直致力于改进.UV-LED面光源作为新一代绿色环保紫外线光源,为印制电路板曝光领域带来革命性的变化.文章通过分析传统平行光紫外曝光机光学系统特点,设计了一种平行光紫外线曝光机适用的UV-LED面光源系统,UV-LED灯珠光功率利用率大幅提高,光照均匀性优良,并且不改变曝光机结构的情况下,可直接安装使用.实验表明,采用了复眼式阵列光学透镜结构设计的UV-LED面光源系统,完全可替代传统平行光紫外曝光机光源.
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- 浙江欧视达科技有限公司
- 公开公告日期:2015.12.16
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摘要:
本发明提供一种紫外LED曝光机光学曝光照明系统以及应用该系统的LED曝光机,包括至少一个光源安装板、准直透镜以及用于固定准直透镜与光源安装板上光源距离的曝光照明矩阵排布器,所述光源安装板上依次排列多行等距排列的紫外LED光源,所述每行相邻两颗紫外LED光源的中心之间的距离为A,相邻两行同一列的紫外LED光源的中心距离为B,B=A/行数,相邻两颗紫外LED光源之间等距排列,本发明以提高曝光均匀度及降低光源发散角度为前提,避免由于光学曝光照明系统辐照度不均匀,导致线条粗细不均匀,整块板上的分辨力不一致,或有断线等现象的发生。
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- 浙江欧视达科技有限公司
- 公开公告日期:2014-01-15
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摘要:
本发明提供一种紫外LED曝光机光学曝光照明系统以及应用该系统的LED曝光机,包括至少一个光源安装板、准直透镜以及用于固定准直透镜与光源安装板上光源距离的曝光照明矩阵排布器,所述光源安装板上依次排列多行等距排列的紫外LED光源,所述每行相邻两颗紫外LED光源的中心之间的距离为A,相邻两行同一列的紫外LED光源的中心距离为B,B=A/行数,相邻两颗紫外LED光源之间等距排列,本发明以提高曝光均匀度及降低光源发散角度为前提,避免由于光学曝光照明系统辐照度不均匀,导致线条粗细不均匀,整块板上的分辨力不一致,或有断线等现象的发生。
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