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PREVAIL--下一代电子束投影曝光技术

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摘要

PREVAIL作为下一代电子束投影曝光技术,采用可变轴浸没透镜,对以硅为支架的碳化硅薄膜进行投影微缩曝光.在1mm2子场的情况下,运用步进扫描曝光方式,在100nm临界尺寸下具有较高的产量,与EUVL技术一起成为下一代曝光技术的有力竞争者.

著录项

来源
《微细加工技术》 |2002年第2期|1-4|共4页
作者
王云翔; 刘明; 陈宝钦; 李友; 张建宏; 张卫红;
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作者单位

中国科学院微电子中心光掩模实验室,北京,100029;

中国科学院微电子中心光掩模实验室,北京,100029;

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中国科学院微电子中心光掩模实验室,北京,100029;

中国科学院微电子中心光掩模实验室,北京,100029;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类光刻、掩膜;
关键词
PREVAIL; 电子束投影曝光;

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