接触式曝光与电子束直写技术相结合的混合曝光方法

摘要

一种接触式曝光与电子束直写技术相结合的混合曝光方法，包括：1：光刻小源漏版，用电子束直写曝光，完成源漏与有源区的欧姆接触部分和检测隔离岛腐蚀状况的方块金属；2：光刻岛版，腐蚀出有源区；3：光刻大源漏栅版，并使形成的大源漏与小源漏搭接在一起，形成完整的源漏金属区，同时形成大面积的栅金属区；4：光刻栅版，通过电子束曝光形成精细的栅条，并与步骤3形成的大面积的栅金属搭接形成完整的栅区。